팹 내에서는 잘 알려진 사실이 있습니다. 포토레지스트를 가열할 때 1°C만큼의 온도 변화가 생겨도 치명적인 결과를 초래할 수 있으며, 그로 인해 많은 웨이퍼들이 폐기되게 됩니다. 우리는 이러한 불확실성을 완전히 없애기 위해 특수한 반도체용 적외선 히터를 개발했습니다.
핵심적인 요소들 우리는 석영 커버를 사용하여 단파 적외선을 방출합니다. 이 방식을 통해 열이 직접적으로 전달되므로, 빠르고 정확하게 제어됩니다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 온도가 ±0.1°C 이내로 일정하게 유지되므로, 온도 차이로 인한 문제가 발생하지 않습니다. 이 히터는 클래스 1–100 등급의 청정실에서 사용되며, 실시간 모니터링을 통해 입자 생성이 전혀 없음을 확인할 수 있습니다. 출력의 반복성도 주기당 0.5% 이내로 유지되며, 5,000시간 이상 사용해도 출력 감소율은 5% 미만입니다.
리소그래피에서의 장점 리소그래피에서는 이러한 안정성 덕분에 소프트 베이크 및 하드 베이크 과정이 더욱 정확해집니다. CD 제어도 더욱 정밀해지며, 매번 일관된 베이킹 조건 덕분에 재작업도 줄어듭니다. 설정된 온도에 빠르게 도달하기 때문에, 포토레지스트의 열 한계를 넘지 않으면서도 베이킹 시간을 단축할 수 있습니다.
이러한 장점은 웨이퍼 세척 및 건조 과정에서도 마찬가지입니다. 일정한 온도로 가열되므로 표면 결함이 줄어들고, 가장자리 부분의 문제도 줄어듭니다. 또한, 히터가 챔버 벽이 아닌 목표물만을 가열하기 때문에 에너지 절약에도 도움이 됩니다.
반드시 고려해야 할 세부 사항들 설치 과정에서는 광학적 정렬이 정확해야 하며, 출력의 변동을 막기 위해 전력 조절 장치가 필요합니다. 이 히터는 표준 OEM 장비와 함께 사용될 수 있지만, 열 관리 및 EMI 차폐를 고려하여 설치해야 합니다. 또한, 히터를 교체한 후에는 반드시 교정을 수행해야 하며, 이를 통해 온도가 규격 내에 유지될 수 있습니다.