Di bahagian pengeluaran cip, suhu semasa proses “soft bake” pada 95°C boleh berubah sebanyak 1.5°C sahaja. Ini akan menyebabkan kawalan ketebalan garisan pada langkah litografi seterusnya menjadi tidak tepat. Dalam pembuatan cip superkonduktor, perubahan suhu ini bukan sekadar menyebabkan kerugian hasil pengeluaran, tetapi juga boleh menyebabkan kegagalan proses pengeluaran secara keseluruhan.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Kita telah merekabentuk lampu untuk pembuatan cip superkonduktor dengan menggunakan sistem pemanasan terkawal dan kestabilan suhu yang tinggi. Suhu di permukaan wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C, jadi photoresist akan mengalami suhu yang sama setiap kali proses “soft bake” atau “hard bake” dilakukan. Reka bentuk pemancar cahaya ini mempunyai jisim haba yang rendah, sehingga ia dapat bertindak balas dengan cepat dan mengelakkan perubahan suhu yang tidak diingini apabila resipi pengeluaran berubah. Lampu ini digunakan dalam persekitaran bilik bersih tahap 1–100, dengan sistem penutupan yang baik dan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, supaya jumlah zarah debu tidak meningkat semasa proses pembakaran yang panjang. Sistem kawalan berulang memastikan hasil pengeluaran yang konsisten, sehingga dimensi penting cip dapat dipertahankan sepanjang proses etching.
Mengapa ia berkesan:
Garisan-garisan superkonduktor memerlukan kawalan suhu yang ketat. Dengan lampu ini, proses “soft bake” dan “hard bake” dapat dilakukan dalam julat toleransi yang ditetapkan, sehingga aliran dan daya lekat photoresist tetap konsisten di seluruh permukaan wafer. Ini seterusnya membawa kepada keseragaman yang lebih baik pada garisan-garisan tersebut, pengurangan keperluan untuk memproses semula cip, serta masa pengeluaran yang lebih efisien. Selain itu, lampu ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat tanpa berlaku fluktuasi, sekali gus mengelakkan pembaziran tenaga.
Perkara yang perlu diketahui:
Lampu ini boleh digunakan bersama dengan sistem litografi dan modul pembakaran yang sedia ada. Namun, anda memerlukan sumber kuasa khusus serta sistem pembuangan gas yang memenuhi standard bilik bersih. Lakukan ujian awal untuk menetapkan jarak antara lampu dan wafer, serta menyesuaikan pengukuran suhu agar sesuai dengan jenis wafer dan resipi pengeluaran yang digunakan.