Trên sàn sản xuất, quá trình nung photoresist không phải là bước nhiệt tùy chọn mà là ranh giới mỏng giữa việc đạt thông số dòng nét và phải loại bỏ toàn bộ lô. Nếu đèn IR bắt đầu lệch, các bước soft bake và hard bake cũng sẽ bị ảnh hưởng. Dung môi không bay hơi hoàn toàn, và độ dung sai phơi sáng sụp đổ. Đây là lúc tấm phản xạ nhôm phát huy hiệu quả: nó chuyển đổi năng lượng bức xạ thô thành trường nhiệt ổn định, có thể lặp lại trên toàn bộ wafer.
Điều quan trọng bên trong
Chúng tôi điều chỉnh tấm phản xạ để phát xạ IR trung sóng, phù hợp với nguồn halogen hoặc NIR, nhằm tối ưu hiệu suất phổ và loại bỏ nhiệt thừa không cần thiết. Hình học được thiết kế chính xác để đạt độ đồng đều nhiệt ở mức wafer trong phạm vi ±0.1°C, ngăn chặn sự chênh lệch nhiệt độ không làm dịch chuyển dòng chảy photoresist và giữ kiểm soát kích thước quan trọng. Bề mặt được gia công vi mô nhằm duy trì độ phản xạ ổn định trong hàng ngàn giờ, chống lại sự xuống cấp có thể làm mờ hồ sơ nhiệt. Cụm lắp ráp được thiết kế cho phòng sạch Class 1–100, với vật liệu và mối nối hạn chế hoàn toàn sinh ra hạt trong quá trình vận hành ổn định.
Lý do áp dụng trên hệ thống lithography track
Trong track, tấm phản xạ cố định ngân sách nhiệt cho các bước soft bake và hard bake, đảm bảo tính lặp lại giữa các lô sản xuất. Kiểm soát nhiệt chặt chẽ giảm vấn đề viền bead và cải thiện sự đồng đều kích thước trên toàn wafer — đúng những gì cần thiết để bảo vệ sản lượng. Nó cũng nâng cao hiệu suất năng lượng bằng cách tập trung công suất tại vị trí cần thiết và giảm nhiệt phát sinh không mong muốn, tránh gây căng thẳng cho các module kế cận. Kết quả là giảm số lần dao động công suất đèn, ít phải hiệu chuẩn lại và hiệu năng nung đồng đều xuyên suốt các ca làm việc.
Những lưu ý bạn nên chuẩn bị trước
Việc lắp đặt phải tuân thủ khoảng cách đèn đến wafer và căn chỉnh tiêu điểm; nếu sai sẽ mất lợi thế ±0.1°C về độ đồng đều nhiệt. Tấm phản xạ tương thích với phần cứng lắp đặt tiêu chuẩn, nhưng cần kiểm tra giao diện đèn và hạn mức công suất trước khi thay thế. Ở khu vực độ ẩm cao, chú ý hiện tượng nhiệt luyện vòng khi khởi động để tránh ngưng tụ trên các bề mặt quang học mát. Thiết lập quy trình tăng nhiệt từ từ đến trạng thái ổn định, đảm bảo sự ổn định mà fab yêu cầu.