CVD Heizer (Chemical Vapor Deposition)

Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800

In der Fertigungsstätte ist das thermische Verhalten einer CVD-Kammer kein bloßer Parameter – es ist vielmehr der eigentliche Prozessbestandteil. Eine Abweichung von 1 °C auf der Oberfläche des Wafers kann die Spannungen im Film verändern, die Ablagerungsgeschwindigkeit beeinflussen und dazu führen, dass die Kontrolle über die kritischen Abmessungen nicht mehr gewährleistet ist. Wenn der Heizer anfängt, abzuweichen, muss die Produktion gestoppt werden. Wir haben unseren CVD-Infrarotheizer so konstruiert, dass das thermische Verhalten innerhalb der Toleranzen bleibt, die moderne Herstellungsverfahren erfordern – durch konsequentes Design, nicht durch Hoffnungen.

(Chemikalien on Extra Performance IR Heating

CVD Heizer (Chemical Vapor Deposition)