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		<title>Probe on Extra Performance IR Heating</title>
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				<title>Heizung für Halbleiterwafern</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/de/posts/semiconductor-wafer-probe-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:56:58 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Heizung für Halbleiterwafern&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungshalle führt &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;bereits&lt;/a&gt; eine Abweichung von einem halben Grad beim Prüfen der Halbleiterwafern dazu, dass viele Wafer als Schrott enden – ohne dass man es überhaupt mitbekommt. Wenn das thermische Budget begrenzt ist und der Zeitplan keine Fehler zulässt, bleibt keine Möglichkeit für Vermutungen übrig.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir haben den Heizer für die Halbleiterwafer um einen Kurzwellen-Infrarotstrahler herum konstruiert. Dieser Strahler wird zusammen mit Quarz- und Keramikkomponenten verwendet, die eine geringe Wärmeleitfähigkeit aufweisen. Dadurch wird eine Reaktionszeit von unter einer Sekunde erreicht, und die Temperaturgleichmäßigkeit auf der Waferoberfläche liegt bei ±0,1°C. Die Temperaturstabilitität zwischen den einzelnen Prozessschritten beträgt ±0,05°C. Dadurch bleiben die festgelegten Temperaturen konstant, auch wenn sich die Spannung im System ändert. Der Heizer kann 24/7 betrieben werden, ohne dass es zu unplanbaren Ausfällen kommt.&lt;/p&gt;</description>
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