Trocknen on Extra Performance IR Heating

Heizgerät zum Trocknen von MEMS Sensorwafern

Mon, 27 Jul 2026 06:35:43 +0800

Die richtige Trocknung von MEMS-Wafern – ohne Kontaminationsprobleme
Bei der Trocknung von MEMS-Sensoren ist Wärme nur die halbe Miete. Der eigentliche Kampf erfolgt gegen Partikel.
Wenn Sie in einem Reinraum der Klasse 100 arbeiten, kennen Sie die Situation: Schon eine winzige Menge an Abgasen oder ein Staubkorn vom Heizelement können dazu führen, dass ganze Chargen von Wafern unbrauchbar werden. Das ist eine stressige Arbeitsweise. Deshalb verwenden wir Hochreinheits-Synthetikquarzlampen.

Warum Quarz wichtig ist
Günstiges Glas oder minderwertiger Quarz kann dem Druck nicht standhalten. Nach einigen Wärmezyklen beginnen sie zu zerfallen und geben mikroskopisch kleine Partikel ab. Das ist natürlich nicht gut.
Wir verwenden hochreinen geschmolzenen Siliziumdioxid, denn dieser bleibt bei extremen Temperaturen fest und gibt keine Gase ab. Das Tolle daran: Die Infrarotstrahlung trifft direkt auf die Feuchtigkeit auf der Wafernoberfläche. Dadurch wird das Wasser sofort verdampft – ohne dass der gesamte Raum in einen Ofen verwandelt wird.

Energieprüfung für die Trocknungsanlage

Thu, 23 Jul 2026 11:52:57 +0800

Warum Halbleiterfabriken auf Konvektionsöfen verzichten und stattdessen Infrarot-Technologie nutzen
Wenn Sie kürzlich einmal in einer Halbleiterfabrik waren, haben Sie vermutlich bemerkt, dass diese großen, unhandlichen Konvektionsöfen allmählich verschwinden. Stattdessen wird zunehmend die Infrarot-Technologie eingesetzt. Warum? Weil es sinnlos ist, ganze Räume zu heizen, nur um ein kleines Stück Silizium zu trocknen. Infrarotstrahlung wirkt direkt auf das Substrat. Deshalb weisen „umweltfreundliche“ oder „bleifreie“ Produkte heutzutage fast immer auf die Infrarot-Technologie hin.

Die Physik dahinter ist eigentlich ziemlich einfach.
Stellen Sie sich einen Konvektionsofen vor: Dabei wird die Luft erhitzt, die anschließend die Wände erwärmt – und schließlich auch Ihr Produkt. Damit die Luft weiterhin in Bewegung bleibt, sind starke Lüfter notwendig. Zudem geht viel Energie durch die Wände verloren. Bei der Infrarot-Technologie ist das anders: Es werden elektromagnetische Strahlen verwendet. Die Energie gelangt direkt in den Photoresist oder das Klebstoffmaterial. Das ist schneller – wirklich sehr schnell. Wenn man kurzwelliges Infrarot verwendet, dringt die Energie noch tiefer in das Material ein. Dadurch können dickere Schichten behandelt werden, ohne dass die Oberfläche beschädigt wird.

Infrarot Platte zur Trocknung von Wafern in verschiedenen Zonen

Thu, 02 Jul 2026 08:57:34 +0800

In der Fertigungsstätte lässt ein 5-nm-Prozessschritt keinen Spielraum für Fehler. Schon eine Temperaturdifferenz von 0,3 °C auf der Wafer-Oberfläche kann zu Veränderungen in der CD-Wertigkeit führen und nach dem Ätzen Reste des Fotolacks hinterlassen. Und das herkömmliche Trocknen? Die Ränder bleiben weiterhin feucht. Methoden, bei denen nur Rotation verwendet wird, verschwenden Lösungsmittel und sorgen dafür, dass man nachts noch an den entstandenen Partikeln denken muss.

Wir haben daher ein zonales Infrarot-System entwickelt, um diese Unsicherheiten dort auszuschließen, wo die Wafer die Reinigungsanlage verlassen.