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		<title>Deposición Química De Vapor a Baja Presión (LPCVD) on Extra Performance IR Heating</title>
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				<title>Elemento calefactor del horno LPCVD</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Elemento calefactor del horno LPCVD&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la línea de producción, el horno LPCVD funciona como un recipiente a presión que impone sus condiciones: temperatura estable, uniformidad estricta y cero margen para desviaciones de partículas. Una sola variación de temperatura durante la deposición de polisilicio o nitruro puede manifestarse como una no uniformidad en el espesor en todo el lote. Un punto caliente puede desviar los perfiles de la fotoresistencia en los módulos de horneado contiguos. El elemento calefactor del horno no es solo un componente auxiliar; es el instrumento térmico que determina cuán repetible es realmente su presupuesto térmico.&lt;/p&gt;</description>
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