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		<title>Suave on Extra Performance IR Heating</title>
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				<title>Lámpara de precocido suave para fotorresistente</title>
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				<pubDate>Mon, 08 Jun 2026 05:10:55 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lámpara de precocido suave para fotorresistente&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la planta de fabricación, el soft bake no es una puesta en temperatura. Define el presupuesto de litografía, punto. La no uniformidad de temperatura se manifiesta como variación en el CD, y la &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;retenci&lt;/a&gt;ón de solventes se traduce en footing, residuos o rugosidad en el borde de la línea. Si el horneado se desvía, se está arriesgando todo el proceso.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Esto es lo que importa técnicamente. Nuestra lámpara de soft bake para fotoresistencias mantiene una uniformidad en estado estable de ±0,1°C a lo largo del wafer. Los materiales son compatibles con salas limpias de clase 1–100, y el equipo no genera partículas. Los elementos de infrarrojo de onda corta están sintonizados al perfil de absorción del fotoresist, de modo que la energía se dirige al film y no al sustrato. La repetibilidad es de ±0,5°C lote a lote, y el control de la rampa es lo suficientemente preciso para respetar el presupuesto térmico de nodos avanzados sin sobrepasarlo.&lt;/p&gt;</description>
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