Four à haute température pour fab lab

Sat, 27 Jun 2026 04:57:25 +0800

Dans les usines de fabrication, le processus de cuisson des 웨이퍼 se fait en deux étapes : cuisson douce et cuisson forte. Le contrôle thermique n’est pas quelque chose que l’on peut ajuster à volonté ; c’est plutôt une condition fixe à respecter. Une variation de 2 °C sur la température du 웨이퍼 pendant la cuisson peut entraîner des changements significatifs dans ses dimensions critiques. De plus, une seule particule présente dans la chambre de cuisson peut détruire un 웨이퍼 de 300 mm. Nous avons conçu nos fours à haute température pour permettre aux laboratoires de fabrication de faire face à ces réalités, plutôt que de lutter contre elles.

Élément chauffant de four LPCVD

Sun, 31 May 2026 04:52:44 +0800

Sur la ligne, le four LPCVD fonctionne comme une enceinte sous pression qui impose ses conditions—température stable, uniformité stricte et aucune marge pour des excursions de particules. Une seule excursion de température lors du dépôt de polysilicium ou de nitrure peut se traduire par une non-uniformité d’épaisseur à travers le lot. Un point chaud peut décaler les profils de photo-résist dans les modules de cuisson adjacents. L’élément chauffant du four n’est pas un simple équipement de fond ; c’est l’instrument thermique qui détermine la répétabilité réelle de votre budget thermique.

Chaudière on Extra Performance IR Heating

Four à haute température pour fab lab

Élément chauffant de four LPCVD