Chauffage de cuisson de photoresist durable

Sun, 07 Jun 2026 03:54:27 +0800

Sur le plancher de la wafer, le cuiseur n’est pas une pause—c’est un verrou de procédé. Si l’uniformité de la température dérive à travers la photorésine, vous observez une variation de CD et des problèmes de rendement. Et lorsque le chauffage de la cuisson commence à sous-performer, les données vous l’indiquent en premier, bien avant que le wafer ne le montre.

Ce qui compte sous le capot
Ce chauffage de cuisson pour photorésine a été conçu pour la répétabilité des cuissons lithographiques. Il maintient une uniformité thermique au niveau du wafer à ±0,1 °C, afin que le budget thermique reste maîtrisé et que le profil de la photorésine reste conforme aux spécifications. Il est compatible avec les environnements de salle blanche Classe 1–100 et fonctionne sans pic de particules pendant les cycles de cuisson. Dans les fabs à cadence élevée, il est conçu pour une fiabilité 24/7—jour après jour—avec un fonctionnement continu qui n’interrompt pas votre flux.

Photoresistant on Extra Performance IR Heating

Chauffage de cuisson de photoresist durable