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		<title>Séchage on Extra Performance IR Heating</title>
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		<description>Recent content in Séchage on Extra Performance IR Heating</description>
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				<title>Chauffage de séchage des plaques de capteurs MEMS</title>
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				<pubDate>Mon, 27 Jul 2026 06:35:22 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Chauffage de séchage des plaques de capteurs MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Comment sécher correctement les wafer MEMS (sans risque de contamination)&lt;br&gt;&#xA;Lorsque l’on sèche des capteurs MEMS, la chaleur n’est que moitié du problème. La véritable lutte concerne les particules présentes dans l’air.&lt;br&gt;&#xA;Si vous travaillez dans une salle propre de classe 100, vous connaissez bien le problème : un petit écoulement de gaz ou un fragment de matériau provenant d’un élément chauffant &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;suffit&lt;/a&gt; pour rendre toute une série de wafer inutilisables. C’est une situation très stressante. C’est pourquoi nous utilisons des lampes à infrarouges en quartz synthétique de haute pureté.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Audit énergétique pour le séchage en usine</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/fr/posts/energy-audit-for-fab-drying/</link>
				<pubDate>Thu, 23 Jul 2026 11:52:57 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Audit énergétique pour le séchage en usine&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Pourquoi les usines de fabrication de semi-conducteurs abandonnent-elles les fours traditionnels au profit du séchage par rayonnement infrarouge ?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Si vous avez passé du temps dans une telle usine récemment, vous avez probablement remarqué quelque chose : ces grands fours à convection encombrants commencent à disparaître. Les gens privilégient désormais le séchage par rayonnement infrarouge. Pourquoi ? Parce que chauffer toute une pièce juste pour sécher un petit morceau de silicium est plutôt gaspilleur d’énergie. Le rayonnement infrarouge agit directement sur le matériau à traiter. C’est pourquoi les critères de “respect de l’environnement” ou “absence de plomb” indiquent presque toujours l’utilisation du rayonnement infrarouge aujourd’hui.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Panneau infrarouge de séchage de wafer en zones</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/fr/posts/zoned-wafer-drying-infrared-panel/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:57:34 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Panneau infrarouge de séchage de wafer en zones&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le site de fabrication, un nœud de 5 nm ne laisse aucune marge d’erreur. Une différence de température de 0,3 °C sur la wafer peut entraîner des déviations dans les paramètres de gravure, ainsi que des résidus de photo-résist après traitement. Quant au séchage conventionnel… vous savez bien comment ça se passe : les bords de la wafer restent humides. Les méthodes de séchage par rotation gaspillent du solvant et causent des problèmes liés aux particules présentes dans l’air.&lt;/p&gt;</description>
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