Lampe de fabrication de puces supraconductrices

Wed, 17 Jun 2026 15:58:32 +0800

Sur le plan de fabrication, une cuisson douce du photorésistant à 95°C peut entraîner des écarts allant jusqu’à 1,5°C. Cela affecte négativement le contrôle de l’épaisseur des lignes lors de l’étape de lithographie suivante. Dans le cas de la fabrication de puces supraconductrices, ces écarts ne se traduisent pas seulement par une perte de rendement, mais aussi par l’échec de la production.

Ce qui est important sur le plan technique Nous avons conçu cette lampe pour une chauffe radiative contrôlée et une homogénéité thermique parfaite. Elle maintient une stabilité de ±0,1°C sur toute la surface de la wafer, de sorte que le photorésistant subit toujours la même température, que ce soit lors d’une cuisson douce ou dure.

Superconducteur on Extra Performance IR Heating

Lampe de fabrication de puces supraconductrices