Chauffage CVD (Dépôt par vapeur chimique)

Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800

Dans l’usine de fabrication, le profil thermique d’une chambre CVD n’est pas simplement un autre paramètre : c’est en fait l’élément clé du processus de dépôt. Une variation de 1°C sur la surface de la wafer peut entraîner des changements dans la tension de la couche déposée, affecter le taux de dépôt et compromettre le contrôle des dimensions critiques. Lorsque le chauffage commence à dévier de ses valeurs normales, la production s’arrête. Nous avons conçu notre chauffage infrarouge CVD pour que son comportement thermique reste dans les limites exigées par les technologies modernes – par conception, et non par simple souhaits.

Vapeur on Extra Performance IR Heating

Chauffage CVD (Dépôt par vapeur chimique)