सुखाना on Extra Performance IR Heating

एमईएमएस सेंसर वेफर को सुखाने हेतु हीटर

Mon, 27 Jul 2026 06:35:18 +0800

MEMS वेफरों को सही तरीके से सुखाना – संदूषण की समस्या से बचना
जब MEMS सेंसरों को सुखाया जाता है, तो ऊष्मा ही एकमात्र कारक नहीं होता। वास्तविक चुनौती तो कणों से लड़ना ही है।
यदि आप क्लास 100 के क्लीनरूम में काम कर रहे हैं, तो आपको पता ही होगा कि थोड़ी सी भी गंदगी या हीटिंग एलिमेंट से निकलने वाले कण, पूरे वेफरों को बेकार बना सकते हैं। ऐसे में काम करना बहुत ही कठिन हो जाता है। इसीलिए हम उच्च-शुद्धता वाले सिंथेटिक क्वार्ट्ज IR लैंपों का ही उपयोग करते हैं।

फैब ड्रायिंग हेतु ऊर्जा ऑडिट

Thu, 23 Jul 2026 11:52:57 +0800

आखिर क्यों सेमीकंडक्टर फैक्ट्रियाँ ओवनों के बजाय आईआर तकनीक का उपयोग कर रही हैं?

यदि आपने हाल ही में किसी सेमीकंडक्टर फैक्ट्री में समय बिताया है, तो आपने शायद यह देखा होगा कि वहाँ पर इस्तेमाल होने वाले बड़े-बड़े ओवन धीरे-धीरे गायब होते जा रहे हैं। लोग अब इन्फ्रारेड (IR) तकनीक का उपयोग कर रहे हैं। क्यों? क्योंकि केवल एक छोटे से सिलिकॉन टुकड़े को सुखाने हेतु पूरे कमरे को गर्म करना बेकार है। इन्फ्रारेड तकनीक में ऊर्जा सीधे ही सामग्री तक पहुँच जाती है। यही कारण है कि आजकल “पर्यावरण-अनुकूल” या “लीड-फ्री” उत्पादों में इन्फ्रारेड तकनीक का ही उपयोग किया जाता है।

ज़ोन्ड वेफर ड्रायिंग इन्फ्रारेड पैनल

Thu, 02 Jul 2026 08:57:34 +0800

फैब फ्लोर पर, 5 नैनोमीटर आकार के चिपों के निर्माण में कोई भी त्रुटि स्वीकार्य नहीं है। वेफर पर 0.3°C का तापमान-अंतर भी CD मानों में परिवर्तन पैदा कर सकता है, एवं इथेचिंग के बाद फोटोरेजिस्ट के अवशेष भी बच सकते हैं। पारंपरिक सुखाने की प्रक्रियाओं में तो किनारों पर अभी भी नमी रह जाती है। “स्पिन-ओनली” विधियों में तो घोल की बर्बादी होती है, एवं कणों की समस्या भी बनी रहती है।
हमने ऐसा ज़ोन्डेड इन्फ्रारेड पैनल विकसित किया है, जिससे वेफर को साफ करने के बाद ऐसी समस्याओं से छुटकारा मिल जाता है।
इस पैनल का मुख्य घटक छोटी-तरंगदैर्घ्य वाला इन्फ्रारेड है; प्रत्येक ज़ोन में तापमान को ±0.1°C के भीतर ही बनाए रखा जाता है। इससे पूरे वेफर पर समान तापमान बना रहता है। यह पैनल पतला है, क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में भी इस्तेमाल किया जा सकता है; इसकी सतह इतनी ठंडी होती है कि कणों का उत्पादन लगभग शून्य ही रहता है।
इससे फोटोरेजिस्ट को किसी भी तरह के दबाव में न डालते हुए ही वेफर को सुखाया जा सकता है। “सॉफ्ट बेक” एवं “हार्ड बेक” प्रक्रियाएँ भी वैसी ही रहती हैं; आवश्यकता पड़ने पर पैटर्न वाले वेफरों से अवशेष फिल्म को हटाया जा सकता है, बिना फिर से वेफर को एक्सपोज़ करने की आवश्यकता के।
व्यावहारिक रूप से, इससे उत्पादन समय एवं उत्पादकता में वृद्धि होती है। सुखाने में लगने वाला समय कम हो जाता है, क्योंकि ऊर्जा सीधे फिल्म पर ही पड़ती है। ऊर्जा की खपत भी कम हो जाती है, क्योंकि केवल सक्रिय ज़ोन ही कार्य करते हैं। 24/7 कार्य करने वाली इस प्रणाली में डिज़ाइन ऐसा है कि इसमें कोई अप्रत्याशित रुकावट नहीं आती।
इससे लिथोग्राफी एवं इथेचिंग प्रक्रियाओं में CD मानों पर बेहतर नियंत्रण प्राप्त होता है।
इसकी स्थापना आसान है; लेकिन चैंबर का डिज़ाइन महत्वपूर्ण है। पैनल का आकार चक के आकार के अनुरूप होना चाहिए, एवं रोबोट के एंड-इफेक्टरों के लिए भी पर्याप्त जगह होनी चाहिए। यह पैनल मानक इंटरफेसों के माध्यम से मौजूदा नियंत्रण प्रणालियों के साथ भी जुड़ सकता है। अपनी प्रक्रिया के अनुसार ज़ोनों को समायोजित करना भी आसान है। बस वोल्टेज एवं कनेक्टर का प्रकार पहले ही निर्धारित कर लेना चाहिए, ताकि पुनः काम करने की आवश्यकता ही न पड़े।
ज़ोन्डेड इन्फ्रारेड सुखाने की प्रक्रिया हर लाइन के लिए उपयुक्त नहीं है; यह तब ही उपयोगी है, जब तापीय एकरूपता ही मुख्य समस्या हो। यदि आपकी लाइन उन्नत नॉड्स पर उच्च उत्पादकता हासिल करना चाहती है, तो यह पैनल आपको आवश्यक नियंत्रण प्रदान करेगा।