हीटिंग on Extra Performance IR Heating

वेफर को गर्म करने हेतु सुरक्षा दूरी

Thu, 16 Jul 2026 02:42:05 +0800

हम लीड-रहित सेमीकंडक्टरों के लिए IR तकनीक का उपयोग क्यों कर रहे हैं?

सेमीकंडक्टर उद्योग अब धीरे-धीरे अपनी पुरानी, रासायनिक आधारित प्रक्रियाओं को छोड़ रहा है। ऐसी प्रक्रियाओं में विषाक्त रसायनों का उपयोग होता है। इसी समस्या का समाधान है इन्फ्रारेड (IR) तकनीक। यह उन लोगों के लिए बेहतरीन विकल्प है, जो “हरित” उत्पादन प्रक्रियाओं को अपनाना चाहते हैं… क्योंकि इसमें विषाक्त रसायनों की आवश्यकता ही नहीं होती, और क्लीनरूम में भी बहुत अधिक ऊर्जा की आवश्यकता नहीं पड़ती।

ऊर्जा बचत वाले सेमीकंडक्टर हीटिंग सिस्टम

Sun, 12 Jul 2026 09:53:40 +0800

काँच के टुकड़ों से बचें: अपने क्वार्ट्ज ट्यूबों को सुरक्षित रखें

उच्च-लोड वाले सेमीकंडक्टर उपकरणों में, इन्फ्रारेड लैंपों में खराबी होना एक बड़ी समस्या है। ऐसी स्थिति में न केवल मशीन बंद हो जाती है, बल्कि चारों ओर काँच के टुकड़े एवं हैलोजन गैस फैल जाती है। ऐसी स्थिति में पूरा उत्पादन बर्बाद हो जाता है। इसके बाद चैंबर की सफाई में कई घंटे लग जाते हैं। हमने ऐसी स्थितियों से बचने के तरीके ढूँढने में बहुत समय लगाया है।

वैक्यूम ओवन हीटिंग एलिमेंट निर्माण

Sat, 04 Jul 2026 11:13:37 +0800

वैक्यूम ओवन हीटिंग तत्व: हाई-एंड वेफर उत्पादन हेतु विशेष रूप से डिज़ाइन किए गए
हम, वैक्यूम ओवन हीटिंग तत्वों के क्षेत्र में अग्रणी कंपनियों का मुकाबला कर रहे हैं। क्योंकि हमें पता है कि हाई-एंड वेफर उत्पादन हेतु क्या आवश्यक है। यह कोई दावा नहीं है… बल्कि ऐसी परिस्थितियों में भी काम को सही तरीके से पूरा करना ही हमारा लक्ष्य है।

क्या महत्वपूर्ण है?
वैक्यूम ओवन हीटिंग तत्व का काम है – कम दबाव वाले वातावरण में निरंतर ऊष्मा प्रदान करना। और यह काम तभी संभव है, जब सभी विवरण सही हों।
हम, आपके उपकरणों की विद्युत आवश्यकताओं के अनुसार ही वैटेज एवं वोल्टेज निर्धारित करते हैं… ताकि आपको लक्षित तापमान प्राप्त हो सके, एवं पावर सप्लाई पर अतिभार न पड़े।
सटीकता बहुत महत्वपूर्ण है… यदि आप 300 मिमी आकार का हीटिंग तत्व उपयोग में लाते हैं, तो वह चेम्बर में बिल्कुल सही तरीके से फिट होना चाहिए… थोड़ी सी भी त्रुटि से ऊष्मा असमान रूप से वितरित हो जाती है… कोई गुंजाइश नहीं है।

अर्धचालक इन्फ्रारेड हीटिंग लैंप

Wed, 01 Jul 2026 12:55:33 +0800

फैब्रिकेशन लेवल पर, आपको पता ही होगा कि फोटोरेसिस्ट को गर्म करने के दौरान 1°C का अंतर ही परिणामों को बदलने के लिए पर्याप्त है… ऐसी स्थिति में कई वेफर बेकार हो जाते हैं। हमने इस समस्या को दूर करने हेतु अपने सेमीकंडक्टर-उपयोगी इन्फ्रारेड हीटिंग लैंपों को विकसित किया।
वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?
हम शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड तरंगों का उपयोग करते हैं… इससे ऊष्मा सीधे ही लक्षित सतह तक पहुँचती है… ऐसे में तापमान स्थिर रहता है… और इससे एक्सपोजर/डेवलपमेंट प्रक्रिया में कोई बाधा नहीं आती। ये लैंप क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में ही उपयोग में आते हैं… और इनकी निगरानी से यह सुनिश्चित होता है कि कोई कण उत्पन्न ही न हो। आउटपुट की विश्वसनीयता 0.5% के भीतर ही रहती है… और 5,000 घंटों से अधिक समय तक भी तापीय स्थिरता 5% से कम ही रहती है।
लिथोग्राफी में इसका क्या लाभ है?
लिथोग्राफी में ऐसी स्थिरता से बेकिंग प्रक्रिया आसान हो जाती है… सीडी नियंत्रण भी बेहतर हो जाता है… और रीवर्किंग की आवश्यकता भी कम हो जाती है… क्योंकि हर बार बेकिंग प्रक्रिया समान ही रहती है। लैंप जल्दी ही निर्धारित तापमान तक पहुँच जाता है… इससे बेकिंग समय कम हो जाता है… और फोटोरेसिस्ट की थर्मल सीमाओं का उल्लंघन भी नहीं होता।
वेफर की सफाई/सुखाने में इसका क्या लाभ है?
नियंत्रित ऊष्मा से सतह पर कम दोष उत्पन्न होते हैं… और ऊर्जा की भी बचत होती है… क्योंकि लैंप केवल लक्षित सतह को ही गर्म करता है… न कि चेंबर की दीवारों को।
व्यावहारिक विवरण…
लैंप की स्थापना बिल्कुल सटीक होनी चाहिए… ऑप्टिकल अलाइनमेंट भी सटीक होना आवश्यक है… आउटपुट में होने वाले उतार-चढ़ावों को रोकने हेतु विशेष पावर कंडीशनिंग आवश्यक है। ये लैंप मानक OEM उपकरणों के साथ ही काम करते हैं… लेकिन थर्मल क्लीयरेंस एवं EMI शील्डिंग का ध्यान रखना आवश्यक है। नियमित रूप से कैलिब्रेशन भी आवश्यक है… खासकर लैंप बदलने के बाद… ताकि तापमान स्थिर ही रहे।

एलपीसीवीडी भट्टी हीटिंग तत्व

Sun, 31 May 2026 04:52:45 +0800

लाइन पर, LPCVD फर्नेस एक प्रेशर वेसल की तरह चलता है जो अपनी शर्तें रखता है—स्थिर तापमान, सघन समानता, और कण विचलन के लिए कोई गुंजाइश नहीं। पॉलीसिलिकॉन या नाइट्राइड डिपोजिशन के दौरान एकल तापमान विचलन पूरे लॉट में मोटाई की असमानता के रूप में सामने आ सकता है। एक हॉट स्पॉट फोटोरेजिस्टर प्रोफाइल को बेक मॉड्यूल में टार्गेट से बाहर धकेल सकता है जो ठीक पास में स्थित होते हैं। फर्नेस हीटिंग एलिमेंट केवल एक बैकग्राउंड हार्डवेयर नहीं है; यह वह थर्मल उपकरण है जो आपके थर्मल बजट की पुनरावृत्ति को निर्धारित करता है।