Di fasilitas produksi, proses pembuatan chip dengan ukuran 5 nm membutuhkan ketepatan yang sangat tinggi. Perbedaan suhu sebesar 0,3°C saja pada permukaan wafer sudah cukup untuk mengubah nilai CD dan meninggalkan sisa-sisa bahan fotoresist setelah proses etching. Lalu bagaimana dengan metode pengeringan konvensional? Anda tahu sendiri—bagian tepi wafer masih tetap lembap. Metode pengeringan berbasis putaran hanya membuang-buang bahan pelarut, dan juga menimbulkan masalah terkait adanya partikel-partikel kecil di permukaan wafer.
Kami telah membuat panel inframerah bertipe zona untuk mengatasi masalah tersebut, tepatnya di titik keluarnya wafer dari proses pembersihan. Inti dari panel ini adalah penggunaan sinar inframerah berfrekuensi rendah dengan kontrol zona yang presisi. Setiap zona memiliki tingkat stabilitas suhu sebesar ±0,1°C, sehingga seluruh permukaan wafer mendapatkan perlakuan termal yang seragam. Panel ini memiliki bentuk yang tipis, cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Permukaannya juga cukup dingin sehingga mengurangi kemungkinan munculnya partikel-partikel kecil.
Dengan menggunakan panel ini, proses pengeringan menjadi lebih dapat diprediksi, tanpa perlu memaksa bahan fotoresist untuk mengalir. Proses pengeringan secara perlahan maupun cepat tetap berjalan lancar, dan sisa-sisa bahan pada permukaan wafer dapat dibersihkan tanpa perlu melakukan proses eksposur ulang.
Dalam praktiknya, waktu proses pengeringan berkurang, karena energi yang digunakan hanya ditujukan pada lapisan film, bukan pada bahan pembawa lainnya. Penggunaan energi pun berkurang, karena hanya zona-zona aktif yang digunakan. Dengan desain yang memungkinkan penggunaan 24/7 serta modul yang dapat diganti di lapangan, waktu hentinya pun berkurang.
Hasilnya adalah pemecahan butiran-butiran kecil yang lebih konsisten, konsumsi bahan pelarut yang lebih rendah, serta kontrol nilai CD yang lebih baik melalui proses litografi dan etching.
Pemasangannya relatif mudah, tetapi geometri ruang produksi sangat penting. Pastikan bahwa ukuran panel sesuai dengan ukuran chuck, dan pastikan ada jarak yang cukup antara panel dan alat-alat yang digunakan untuk memindahkan wafer. Panel ini dapat terintegrasi dengan sistem kontrol yang sudah ada melalui antarmuka standar. Penyetelan parameter zona juga mudah dilakukan langsung di lokasi. Cukup tentukan tegangan dan jenis koneksi terlebih dahulu, agar tidak perlu melakukan proses perbaikan ulang.
Panel pengeringan inframerah bertipe zona bukanlah solusi yang cocok untuk semua jenis linier produksi. Panel ini paling efektif digunakan di tempat-tempat di mana keseragaman suhu merupakan faktor penentu kualitas produk. Jika linier produksi Anda berfokus pada peningkatan tingkat hasil produksi pada node yang canggih, maka panel ini akan memberikan kontrol yang diperlukan untuk mempertahankan kualitas produk tersebut.