<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Mengeringkan on Extra Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-extra.com/id/tags/mengeringkan/</link>
		<description>Recent content in Mengeringkan on Extra Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 08:57:35 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-extra.com/id/tags/mengeringkan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Panel pengeringan wafer berbasis teknologi inframerah</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/id/posts/zoned-wafer-drying-infrared-panel/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:57:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-extra.com/id/posts/zoned-wafer-drying-infrared-panel/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Panel pengeringan wafer berbasis teknologi inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasilitas produksi, proses pembuatan chip dengan ukuran 5 nm membutuhkan ketepatan yang sangat tinggi. Perbedaan suhu sebesar 0,3°C saja pada permukaan wafer sudah cukup untuk mengubah nilai CD dan meninggalkan sisa-sisa bahan fotoresist setelah proses etching. Lalu bagaimana dengan metode pengeringan konvensional? Anda tahu sendiri—bagian tepi wafer masih tetap lembap. Metode pengeringan berbasis putaran hanya membuang-buang bahan pelarut, dan juga menimbulkan masalah terkait adanya partikel-partikel kecil di permukaan wafer.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami telah membuat panel inframerah bertipe zona untuk mengatasi masalah tersebut, tepatnya di titik keluarnya wafer dari proses pembersihan. Inti dari panel ini adalah penggunaan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;sinar&lt;/a&gt; inframerah berfrekuensi rendah dengan kontrol zona yang presisi. Setiap zona memiliki tingkat stabilitas suhu sebesar ±0,1°C, sehingga seluruh permukaan wafer mendapatkan perlakuan termal yang seragam. Panel ini memiliki bentuk yang tipis, cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Permukaannya juga cukup dingin sehingga mengurangi kemungkinan munculnya partikel-partikel kecil.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
