Nelle linee di produzione a livello 5 nm, non c’è spazio per errori o imprecisioni. Anche una variazione di temperatura di soli 0,3°C sulla superficie del wafer può influire negativamente sulla qualità del prodotto, lasciando residui di fotorest dopo il processo di蚀刻. E per quanto riguarda il riscaldamento convenzionale? Si sa come funziona: i bordi del wafer rimangono comunque umidi. I metodi basati sullo spin, invece, sprechano solventi e causano problemi legati alla presenza di particelle indesiderate.
Abbiamo creato un pannello a infrarossi a zone distinte, per eliminare queste incertezze proprio nel momento in cui il wafer esce dalla fase di lavaggio.
Il cuore di questo sistema è rappresentato dai raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda, con controllo preciso per ogni zona. Ogni zona mantiene una stabilità termica di ±0,1°C, così che l’intero wafer riceva lo stesso trattamento termico. Il pannello è sottile, adatto per ambienti puliti di classe 1–100; inoltre, la sua superficie rimane abbastanza fredda da ridurre al minimo la formazione di particelle.
Il risultato è un processo di essiccazione ripetibile, senza che il fotorest venga compromesso. I tempi di essiccazione diminuiscono, poiché l’energia viene concentrata sul film stesso, e non sui supporti su cui è applicato. Inoltre, l’uso di energia scende, poiché funzionano solo le zone necessarie. I tempi di inattività non pianificati diminuiscono grazie a un design progettato per funzionare 24/7, con moduli sostituibili sul campo.
Si ottengono così risultati coerenti, con un consumo ridotto di solventi e un controllo più preciso della qualità del prodotto durante i processi di litografia ed etching.
L’installazione è semplice, ma è importante che la geometria della camera di produzione sia adeguata. È necessario assicurarsi che le dimensioni del pannello corrispondano a quelle del supporto su cui viene posizionato il wafer, e che ci siano sufficienti spazi per i movimenti dei bracci robotici. Il pannello può essere integrato nei sistemi di controllo esistenti tramite interfacce standard. Regolare le impostazioni delle singole zone è un procedimento semplice da eseguire sul posto. Basta specificare in anticipo la tensione e il tipo di connettore, per evitare ulteriori lavori di modifica.
Il sistema di essiccazione a infrarossi a zone distinte non è una soluzione universale per tutte le linee di produzione. È particolarmente utile laddove l’uniformità termica rappresenta il principale fattore limitante. Se la vostra linea di produzione mira a ottenere alti tassi di produzione nei processi avanzati, questo pannello vi offre il controllo necessario per mantenere la qualità del prodotto.