<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>CVD on Extra Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-extra.com/it/tags/cvd/</link>
		<description>Recent content in CVD on Extra Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>it</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-extra.com/it/tags/cvd/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Riscaldatore CVD (Deposizione da vapore chimico)</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/it/posts/cvd-chemical-vapor-deposition-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-extra.com/it/posts/cvd-chemical-vapor-deposition-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore CVD (Deposizione da vapore chimico)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nelle linee di produzione basate su tecniche CVD, il profilo termico della camera di deposizione non è semplicemente un altro parametro da considerare: esso rappresenta, di fatto, l’intero processo di deposizione. Un cambiamento di temperatura di 1°C sulla superficie del wafer può influenzare lo stress della pellicola depositata, modificare la velocità di deposizione e far sì che i parametri critici di controllo vengano superati. Quando il riscaldatore inizia ad avere delle variazioni di temperatura, la linea di produzione si ferma. Abbiamo progettato il nostro riscaldatore a infrarossi per mantenere il comportamento termico entro i limiti richiesti dai processi moderni: è una soluzione basata su principi tecnologici concreti, non su supposizioni.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
