Lampada per la cottura soffice del fotoresist

Mon, 08 Jun 2026 05:10:56 +0800

Sulla linea di produzione, il soft bake non è un riscaldamento preliminare. È la definizione del budget litografico, punto. La non uniformità della temperatura si traduce in variazioni del CD, e la ritenzione di solvente si manifesta come footing, scum o rugosità dei bordi delle linee. Lasciare che la temperatura del bake derivi significa mettere a rischio l’intero processo.

Ecco cosa conta dal punto di vista tecnico. La nostra lampada per soft bake del fotoresist mantiene una uniformità a regime stabile entro ±0,1°C su tutto il wafer. I materiali sono compatibili con cleanroom di Classe 1–100 e l’apparecchiatura non genera particelle. Gli elementi a infrarossi a onde corte sono tarati sul profilo di assorbimento del fotoresist, così l’energia viene assorbita dal film e non dal substrato. La ripetibilità è di ±0,5°C da batch a batch, e il controllo della salita termica è preciso abbastanza da rispettare il budget termico dei nodi avanzati senza overshoot.

Morbido; Soffice on Extra Performance IR Heating

Lampada per la cottura soffice del fotoresist