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		<title>패널 on Extra Performance IR Heating</title>
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				<title>구역별 웨이퍼 건조용 적외선 패널</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;구역별 웨이퍼 건조용 적외선 패널&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;팹 내에서는 5nm 공정에서는 제어의 여지가 거의 없습니다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 0.3°C 정도의 온도 차이가 생기면 CD 값이 변하고, 에칭 후에는 포토레지스트 잔여물이 남게 됩니다. 그리고 일반적인 건조 방식은 어떨까요? 가장자리 부분은 여전히 습하기 마련입니다. 회전만을 이용하는 방식은 용매를 낭비할 뿐만 아니라, 입자 발생 문제로 인해 야간에도 작업을 중단해야 합니다.&lt;/p&gt;</description>
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