<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(Bahan Kimia) on Extra Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-extra.com/ms/tags/bahan-kimia/</link>
		<description>Recent content in (Bahan Kimia) on Extra Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-extra.com/ms/tags/bahan-kimia/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas CVD (Chemical Vapor Deposition)</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/ms/posts/cvd-chemical-vapor-deposition-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-extra.com/ms/posts/cvd-chemical-vapor-deposition-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Pemanas CVD (Chemical Vapor Deposition)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik proses CVD, profil termal yang wujud di dalam chamber tersebut bukan sekadar parameter biasa – ia merupakan sebahagian &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;daripada&lt;/a&gt; proses itu sendiri. Perubahan suhu sebanyak 1°C pada permukaan wafer boleh menyebabkan perubahan tekanan pada lapisan yang terbentuk, mengubah kadar pengendapan bahan, dan seterusnya menjejaskan kawalan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;dimensi&lt;/a&gt; bahan tersebut. Apabila pemanas mula berubah suhu, proses pengeluaran akan terhenti. Kami telah merancang pemanas inframerah CVD ini agar dapat mengekalkan tingkah laku termal yang memenuhi standard yang ditetapkan untuk nod-nod pengeluaran moden – hasil daripada reka bentuk yang teliti, bukan sekadar harapan semata-mata.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
