Buah api berkuasa tinggi untuk fab lab

Sat, 27 Jun 2026 04:57:25 +0800

Di bilik pemprosesan, proses pembakaran yang lembut dan keras memainkan peranan penting dalam menentukan kualiti wafer. Kawalan suhu bukanlah sesuatu yang boleh diubah secara manual; ia merupakan syarat penting yang perlu dipatuhi. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran boleh mengubah dimensi wafer secara drastik. Selain itu, kehadiran zarah-zarah tertentu di dalam ruang pemprosesan juga boleh merosakkan wafer berukuran 300mm. Kami telah membina ketuhar berkelajuan tinggi ini agar dapat berfungsi dengan baik dalam keadaan sebenar, bukannya untuk melawan keadaan tersebut.

Elemen pemanas relau LPCVD

Sun, 31 May 2026 04:52:45 +0800

Out on the line, ketuhar LPCVD berfungsi seperti kapal tekanan yang menuntut kawalan sendiri—suhu stabil, keseragaman ketat, dan tiada ruang untuk penyimpangan zarah. Satu penyimpangan suhu semasa pemendapan polisilikon atau nitrida boleh menyebabkan ketidaksamaan ketebalan merentasi lot. Titik panas boleh menolak profil fotoresist daripada sasaran dalam modul pembakaran yang terletak bersebelahan. Elemen pemanasan ketuhar bukan sekadar perkakasan latar belakang; ia adalah instrumen terma yang menentukan sejauh mana anggaran terma anda boleh diulang dengan tepat.

Pemanasan inframerah memberi kawalan terus dan pandangan sebaris yang tidak dapat dicapai oleh panel radian konvensional. Kami membina elemen pemanasan LPCVD menggunakan lampu inframerah gelombang pendek (NIR), digabungkan dengan seni bina terma berasaskan kuarza, supaya anda mendapat kawalan medan terma kepada tahap sub-milimeter. Hasilnya ialah profil terma yang boleh dipercayai, satu kumpulan demi satu kumpulan.

Ketuhar on Extra Performance IR Heating

Buah api berkuasa tinggi untuk fab lab

Elemen pemanas relau LPCVD