<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pengalir Superkonduktor on Extra Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-extra.com/ms/tags/pengalir-superkonduktor/</link>
		<description>Recent content in Pengalir Superkonduktor on Extra Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 15:58:32 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-extra.com/ms/tags/pengalir-superkonduktor/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk pembuatan cip superkonduktor</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/ms/posts/superconductor-chip-fabrication-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 15:58:32 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-extra.com/ms/posts/superconductor-chip-fabrication-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk pembuatan cip superkonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bahagian pengeluaran cip, suhu semasa proses “soft bake” pada 95°C boleh berubah sebanyak 1.5°C sahaja. Ini akan menyebabkan kawalan ketebalan garisan pada langkah litografi seterusnya menjadi tidak tepat. Dalam pembuatan cip superkonduktor, perubahan suhu ini bukan sekadar menyebabkan kerugian hasil pengeluaran, tetapi juga boleh menyebabkan kegagalan proses pengeluaran secara keseluruhan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kita telah merekabentuk lampu untuk pembuatan cip superkonduktor dengan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;menggunakan&lt;/a&gt; sistem pemanasan terkawal dan kestabilan suhu yang tinggi. Suhu di permukaan wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C, jadi photoresist akan mengalami suhu yang sama setiap kali proses “soft bake” atau “hard bake” dilakukan. Reka bentuk pemancar cahaya ini mempunyai jisim haba yang rendah, sehingga ia dapat bertindak balas dengan cepat dan mengelakkan perubahan suhu yang tidak diingini apabila resipi pengeluaran berubah. Lampu ini &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;digunakan&lt;/a&gt; dalam persekitaran bilik bersih tahap 1–100, dengan sistem penutupan yang baik dan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;supaya&lt;/a&gt; jumlah zarah debu tidak meningkat semasa proses pembakaran yang panjang. Sistem kawalan berulang memastikan hasil pengeluaran yang konsisten, sehingga dimensi penting cip dapat dipertahankan sepanjang proses etching.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
