<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Chip on Extra Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-extra.com/nl/tags/chip/</link>
		<description>Recent content in Chip on Extra Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 15:58:32 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-extra.com/nl/tags/chip/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>lamp voor de fabricage van supergeleidende chips</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/nl/posts/superconductor-chip-fabrication-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 15:58:32 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-extra.com/nl/posts/superconductor-chip-fabrication-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;lamp voor de fabricage van supergeleidende chips&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn kan er een verschil van maar liefst 1,5°C optreden bij het zacht bakken van de fotoresist bij een temperatuur van 95°C. Hierdoor &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;wordt&lt;/a&gt; de controle over de dikte van de lijnen in de volgende lithografiestap beïnvloed. Bij de productie van supergeleidende chips betekent dit niet alleen een verlies aan rendement, maar ook dat de productie mislukt.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Wat technisch belangrijk is&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Voor de productie van supergeleidende chips hebben we een lamp ontworpen die gebruikmaakt van gecontroleerde stralingsverwarming en een hoge thermische uniformiteit. De temperatuur blijft binnen een marge van ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer. Hierdoor heeft de fotoresist altijd dezelfde temperatuur, ongeacht of het om zacht of hard bakken gaat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
