<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>CVD on Extra Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-extra.com/nl/tags/cvd/</link>
		<description>Recent content in CVD on Extra Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-extra.com/nl/tags/cvd/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>CVD (Chemical Vapor Deposition) verwarmer</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/nl/posts/cvd-chemical-vapor-deposition-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-extra.com/nl/posts/cvd-chemical-vapor-deposition-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;CVD (Chemical Vapor Deposition) verwarmer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn is het thermische profiel van een CVD-chamber geen gewone parameter meer – het &lt;em&gt;is&lt;/em&gt; juist het proces zelf. Een verschil van 1°C op het oppervlak van de wafer kan leiden tot veranderingen in de spanning van de laag die wordt gevormd, tot veranderingen in het depotie-ratio, en tot problemen bij het controleren van de cruciale afmetingen. Zodra de verwarmingseenheid begint te vertekenen, stopt het proces. We hebben onze CVD-infraroodverwarmingseenheid zo ontworpen dat het thermische gedrag binnen de vereisten van moderne productieprocessen blijft – dit gebeurt door goede ontwerpkeuzes, en niet alleen uit wensdenken.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
