Trwały element grzewczy do wypalania fotorezystu

Sun, 07 Jun 2026 03:54:27 +0800

Na podłodze waferu proces wypiekania nie jest przerwą – to blokada procesu. Jeśli jednorodność temperatury w warstwie fotooporu zaczyna się zmieniać, oznacza to zmienność CD i problemy z wydajnością. A gdy grzałka do wypiekania zaczyna pracować poniżej normy, dane sygnalizują to jako pierwsze, dużo wcześniej niż wafer pokaże skutki.

Co się liczy “pod maską”
Ta grzałka do wypiekania fotooporu została zaprojektowana pod kątem powtarzalności procesu wypiekania litograficznego. Utrzymuje jednorodność temperaturową na poziomie ±0.1°C na poziomie waferu, co pozwala kontrolować bilans cieplny i utrzymać profil fotooporu w specyfikacji. Jest kompatybilna ze środowiskami klasy czystości od 1 do 100 i nie powoduje skoków liczby cząstek podczas cykli wypiekania. W fabrykach o wysokiej przepustowości urządzenie jest zaprojektowane do pracy 24/7 – dzień po dniu – z ciagłą eksploatacją, która nie zakłóca Twojego procesu.

Trwały on Extra Performance IR Heating

Trwały element grzewczy do wypalania fotorezystu