Refletor para lâmpada de cura de wafer

Tue, 14 Jul 2026 10:43:27 +0800

Como evitar problemas nas linhas de cura de wafers
A realidade da cura de wafers em condições de alta carga é que, quando uma lâmpada queima, não se trata apenas de perder alguns minutos de produção. Se o tubo de quartzo estourar, cacos de vidro e depósitos de halogênio caem diretamente sobre os wafers. É um pesadelo: com um único estouro, todo o lote de wafers fica inutilizável.

Para evitar isso, usamos um escudo refletor. Pode parecer simples, mas ele desempenha duas funções importantes ao mesmo tempo: atua como uma barreira física e como concentrador de calor.

Cura do underfill para IR de semicondutores

Wed, 03 Jun 2026 10:08:21 +0800

No chão de fábrica, vazios no underfill e baixa produtividade não aparecem como teoria. Aparecem como die perdidos e metas não atingidas. Perfis convencionais de cura dificultam o processo em cada etapa — atraso térmico, gradientes de temperatura e risco de contaminação que comprometem a repetibilidade. É necessário um processo de cura que se mantenha dentro do orçamento térmico e ainda acompanhe a velocidade da linha.

O que desenvolvemos e por que é relevante
Configuramos a cura do underfill em torno do infravermelho de onda curta (NIR) com controle espectral rigoroso. A energia é direcionada diretamente ao material, não ao substrato. Isso proporciona aquecimento volumétrico rápido que reduz o tempo de cura sem ultrapassar os limites térmicos. Na zona quente, a uniformidade a nível de wafer se mantém em ±0,1°C, e a repetibilidade permanece consistente ciclo após ciclo.
O equipamento é adequado para salas limpas, compatível com Classe 1–100, e opera sem geração de partículas durante o funcionamento. Especificamos o sistema para confiabilidade 24/7, selecionando componentes que evitam paradas não programadas.

Curar on Extra Performance IR Heating

Refletor para lâmpada de cura de wafer

Cura do underfill para IR de semicondutores