Aquecedor de CVD (Deposição por Vapor Químico)

Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800

Na linha de produção, o perfil térmico de uma câmara de CVD não é apenas mais um parâmetro – ele é o próprio processo de deposição. Uma variação de 1°C na superfície do wafer pode alterar a tensão na camada depositada, afetar a taxa de deposição e fazer com que o controle das dimensões críticas fique fora dos padrões exigidos. Quando o aquecedor começa a apresentar desvios, a linha de produção para. Nós desenvolvemos nosso aquecedor infravermelho de CVD para manter o comportamento térmico dentro das tolerâncias exigidas pelos processos modernos – por meio de um design preciso, e não por mera intuição.

Depoimento) on Extra Performance IR Heating

Aquecedor de CVD (Deposição por Vapor Químico)