Aquecedor de cozimento de fotoresiste durável

Sun, 07 Jun 2026 03:54:27 +0800

No piso de wafers, o bake não é uma pausa—é um bloqueio do processo. Se a uniformidade da temperatura variar no photoresist, haverá variação de CD e impacto no rendimento. E quando o aquecedor de bake começar a apresentar desempenho abaixo do esperado, os dados indicam isso primeiro, muito antes do wafer mostrar sinais.

O que importa por trás do equipamento
Este aquecedor para bake de photoresist foi desenvolvido para repetibilidade no processo de litografia. Mantém a uniformidade térmica em nível de wafer dentro de ±0,1°C, garantindo controle do budget térmico e mantendo o perfil do photoresist em especificação. É compatível com ambientes de cleanroom Classes 1 a 100 e não causa picos na contagem de partículas durante os ciclos de bake. Em fabs de alta cadência, foi projetado para operação contínua 24/7, consistente, sem interrupções que prejudiquem o fluxo de produção.

Durável on Extra Performance IR Heating

Aquecedor de cozimento de fotoresiste durável