Forno de alta temperatura para fab lab

Sat, 27 Jun 2026 04:57:25 +0800

Na linha de produção, o processo de cozimento em temperatura baixa e alta define as condições necessárias para o processo. O controle térmico não é algo que se pode ajustar manualmente; ele representa uma condição limite. Uma variação de 2°C na temperatura do wafer durante o processo de cozimento pode alterar suas dimensões críticas. Além disso, uma única partícula presente na câmara pode destruir um wafer de 300 mm. Construímos nosso forno de alta temperatura para que os laboratórios de produção possam lidar com essas realidades, e não lutar contra elas.

Elemento de aquecimento do forno LPCVD

Sun, 31 May 2026 04:52:44 +0800

No ambiente da linha de produção, o forno LPCVD opera como um vaso de pressão que exige condições rigorosas—temperatura estável, uniformidade precisa e zero margem para variações de partículas. Uma única variação de temperatura durante a deposição de polisilício ou nitreto pode se manifestar como não uniformidade de espessura ao longo do lote. Um ponto quente pode desviar os perfis de fotoresiste nos módulos de bake que ficam logo ao lado. O elemento de aquecimento do forno não é apenas um equipamento de suporte; é o instrumento térmico que determina o quão repetível seu orçamento térmico realmente é.

Fornalha on Extra Performance IR Heating

Forno de alta temperatura para fab lab

Elemento de aquecimento do forno LPCVD