Нагреватель CVD (химическое осаждение из паров)

Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800

На производственном полу термический профиль камеры CVD – это не просто ещё один параметр; это сам процесс нанесения покрытия. Даже небольшое изменение температуры на поверхности кристалла на 1°C может повлиять на напряжение в слое покрытия, на скорость его нанесения и на точность контроля размеров. Когда температура в камере начинает меняться, процесс производства останавливается. Мы разработали инфракрасные нагреватели для камер CVD таким образом, чтобы термические условия соответствовали требованиям современных технологий – это результат тщательной проработки конструкции, а не просто желания добиться определенного результата.

ИБС on Extra Performance IR Heating

Нагреватель CVD (химическое осаждение из паров)