<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Панель on Extra Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-extra.com/ru/tags/%D0%BF%D0%B0%D0%BD%D0%B5%D0%BB%D1%8C/</link>
		<description>Recent content in Панель on Extra Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 08:57:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-extra.com/ru/tags/%D0%BF%D0%B0%D0%BD%D0%B5%D0%BB%D1%8C/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Инфракрасная панель для сушки вафер в зонированных режимах</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/ru/posts/zoned-wafer-drying-infrared-panel/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:57:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-extra.com/ru/posts/zoned-wafer-drying-infrared-panel/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Инфракрасная панель для сушки вафер в зонированных режимах&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственных линиях с технологией 5 нм нет никакой возможности для ошибок. Даже незначительное повышение температуры на уровне 0,3°C может привести к изменению параметров формы пластины и оставлению остатков фоторезиста после процедуры этичинга. А что касается традиционных методов сушки… Вы же знаете, как это бывает: края пластины все равно остаются влажными. Методы сушки с использованием вращения лишь тратят растворитель и вызывают проблемы из-за наличия частиц.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Мы разработали инфракрасную панель с зонированным контролем, которая помогает избавиться от таких неопределенностей прямо в момент выхода пластины из процесса очистки.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
