อบ on Extra Performance IR Heating

หลอดไฟอบซอฟต์โฟโต้เรซิสต์

Mon, 08 Jun 2026 05:10:56 +0800

บนพื้นโรงงาน การอบแบบ soft bake ไม่ใช่แค่การอุ่นเครื่อง แต่เป็นการกำหนดงบประมาณสำหรับการทำลิโธกราฟีโดยตรง ความไม่สม่ำเสมอของอุณหภูมิจะแสดงออกมาเป็นความแตกต่างของ CD และการกักเก็บตัวทำละลายจะแสดงอาการเป็น footing, scum หรือความหยาบของขอบเส้น หากปล่อยให้อุณหภูมิอบลอยตัว จะเสี่ยงกับกระบวนการทั้งหมด

สิ่งที่สำคัญทางเทคนิคมีดังนี้ หลอดไฟอบ soft bake ของเรารักษาความสม่ำเสมอของอุณหภูมิที่ ±0.1°C ในสภาวะคงที่ทั่วทั้งแผ่นเวเฟอร์ วัสดุของอุปกรณ์เหมาะสมกับห้องสะอาด Class 1–100 และเครื่องมือผลิตอนุภาคเป็นศูนย์ องค์ประกอบอินฟราเรดคลื่นสั้นถูกปรับแต่งให้ตรงกับโปรไฟล์การดูดซับของ photoresist เพื่อให้พลังงานเข้าสู่ฟิล์มโดยตรง ไม่ใช่เข้าสู่ฐานรอง ซ้ำได้ที่ ±0.5°C ระหว่างชุด และการควบคุมการเพิ่มอุณหภูมิทำได้แม่นยำพอที่จะรักษางบประมาณความร้อนของ node ขั้นสูงโดยไม่เกินจุดที่ตั้งไว้

ในกระบวนการผลิต ต้องการการอบที่มีพฤติกรรมเหมือนเดิมทั้งตอน 3 โมงเช้าและ 3 โมงเย็น หลอดนี้รักษาจุดตั้งอุณหภูมิได้ดีในทุกขนาดแผ่นเวเฟอร์ ลดความต่างของตัวทำละลาย และลดความจำเป็นในการชดเชยการรับแสง ผลลัพธ์คือการลดงานแก้ไข, การผลิตผ่านครั้งแรกสูงขึ้น และการควบคุม CD ที่คงที่

การใช้พลังงานได้รับการปรับให้เหมาะสมด้วยการตั้งค่าอย่างรวดเร็วและการสูญเสียขณะว่างต่ำ การออกแบบทำให้การบำรุงรักษาง่าย ไม่มีเส้นทางอากาศซับซ้อน หรือจุดร้อนที่ซ่อนอยู่

มีข้อควรพิจารณาเพิ่มเติมเล็กน้อย หลอดต้องการโปรไฟล์พลังงานที่สะอาดและการแยกความร้อนที่เหมาะสมเพื่อรักษาค่าความสม่ำเสมอ ±0.1°C การตกต่ำของแรงดันหรือการติดตั้งที่ไม่ถูกต้องอาจทำให้อุณหภูมิสม่ำเสมอเปลี่ยนแปลงได้ไม่กี่เศษ ส่วนการติดตั้งทำได้ไม่ยาก แต่จำเป็นต้องจับคู่เครื่องมือกับรูปทรงของ coater และระบบจัดการแผ่นเวเฟอร์

เรากำหนดขนาดโซนร้อนตาม carrier และสูตรของคุณ และแนะนำให้ตรวจสอบประสิทธิภาพอนุภาคเทียบกับการไหลของอากาศในห้องสะอาดของคุณ ให้การจัดตำแหน่งนี้ถูกต้อง แล้วจะได้ soft bake ที่ทำซ้ำได้ สะอาด และตรงตามสเปก

ฮีตเตอร์อบโฟโต้เรซิสต์ที่ทนทาน

Sun, 07 Jun 2026 03:54:27 +0800

บนพื้นเวเฟอร์ การอบไม่ใช่แค่การหยุดพัก แต่เป็นการล็อกกระบวนการ ถ้าอุณหภูมิไม่สม่ำเสมอทั่วถึงบนชั้น photoresist จะส่งผลถึงความคลาดเคลื่อนของขนาดลาย (CD variation) และปัญหาการผลิต และเมื่อฮีตเตอร์อบเริ่มทำงานต่ำกว่ามาตรฐาน ข้อมูลจะบอกคุณก่อนที่จะเห็นได้บนเวเฟอร์

สิ่งที่สำคัญภายในระบบ
ฮีตเตอร์อบ photoresist ตัวนี้ถูกออกแบบมาเพื่อความสม่ำเสมอในการอบลิโธกราฟี มีความสามารถรักษาความสม่ำเสมอของอุณหภูมิระดับเวเฟอร์ให้อยู่ในช่วง ±0.1°C ทำให้การจัดการพลังงานความร้อนเป็นไปอย่างแม่นยำและโปรไฟล์ photoresist อยู่ในพิกัดที่กำหนด ได้รับการรับรองให้ใช้งานในห้องคลีนรูมระดับ Class 1–100 และไม่ทำให้จำนวนอนุภาคเพิ่มขึ้นในระหว่างการอบ ในโรงงานที่มีความถี่การผลิตสูง ฮีตเตอร์นี้ได้รับการออกแบบให้ทำงานได้ตลอด 24/7 อย่างต่อเนื่องโดยไม่ทำลายสัตว์การผลิต

เหตุผลที่ใช้งานได้ดีในโรงงานจริง
ต้องการความสม่ำเสมอของการอบในแต่ละล็อต ทุกกะการทำงาน ไม่ว่าจะเปลี่ยนขนาดเวเฟอร์หรือสูตรการผลิต หน่วยนี้ควบคุมอุณหภูมิได้อย่างเสถียรทั้งในโหมด soft bake และ hard bake ช่วยลดข้อบกพร่องที่เกิดจากสายตาและความคลาดเคลื่อนในการลอกฟิล์ม ผลลัพธ์คือการควบคุมขนาดลายที่แม่นยำขึ้น งานซ่อมน้อยลง และการวางแผนการผลิตที่แม่นยำ การใช้ความร้อนที่มีประสิทธิภาพและการเก็บรักษาอุณหภูมิที่ดีช่วยควบคุมการใช้พลังงาน ทำให้ลดต้นทุนการดำเนินงานโดยไม่สูญเสียความแม่นยำ

รายละเอียดเชิงปฏิบัติ
ฮีตเตอร์ได้รับการยืนยันว่าเทียบเท่ามาตรฐานความร้อนของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์สากล จึงสามารถเปลี่ยนแทนกันได้กับแพลตฟอร์มเดิม การติดตั้งขึ้นอยู่กับการจับคู่อินเตอร์เฟซเครื่องมือ กำลังไฟ และสัญญาณควบคุมกับการตั้งค่าเครื่องจักรของคุณ เราจัดเตรียมพินเอาต์และขั้นตอนการสอบเทียบเพื่อให้การเปลี่ยนเป็นไปอย่างรวดเร็ว คาดว่าจะต้องมีช่วงเวลาเตรียมพร้อมสำหรับการประเมินกระบวนการ แต่อย่างไรก็ตาม เมื่อกระบวนการล็อกแล้ว ประสิทธิภาพจะทำซ้ำได้อย่างต่อเนื่องทุกวัน