Kurutma on Extra Performance IR Heating

MEMS sensör yongası kurutma ısıtıcısı

Mon, 27 Jul 2026 06:36:13 +0800

MEMS wafer’lerini doğru şekilde kurutmak (kirlenme sorunları olmadan)
MEMS sensörlerini kuruturken sıcaklık yalnızca yarı yolda bir faktördür. Asıl mücadele, parçacıklarla mücadeledir.

Eğer Class 100 temizlik odasında çalışıyorsanız, durumu zaten biliyorsunuzdur: Biraz olsun gaz çıkışı veya ısıtma elemanlarından kaynaklanan küçük parçacıklar bile tüm wafer’leri işe yaramaz hale getirebilir. Bu oldukça stresli bir durumdur. İşte bu yüzden yüksek saflıkta sentetik kuvars IR lambalarını kullanıyoruz.

Kuvarsin önemi neden büyük?
Ucuz cam veya düşük kaliteli kuvars, bu tür streslere dayanamaz. Birkaç termal döngüden sonra parçalanmaya başlar ve mikroskobik parçacıklar salgılar. Bu hiç de iyi değildir.

Fabrika kurutma süreci için enerji denetimi

Thu, 23 Jul 2026 11:52:57 +0800

Neden yarı iletken üretim tesisleri fırınları terk edip kızılötesi yöntemlerini kullanıyor?
Eğer son zamanlarda bir üretim tesisinde bulunduysanız, muhtemelen bir şeyi fark etmişsinizdir: O devasa ve hantal konveksiyon fırınları giderek ortadan kalkmaya başladı. İnsanlar bunun yerine kızılötesi yöntemlerini kullanıyorlar. Neden mi? Çünkü küçük bir silikon parçasını kurutmak için tüm odayı ısıtmak oldukça israf olur. Kızılötesi ışınlar doğrudan malzemenin içine nüfuz eder. Bu yüzden günümüzde “çevre dostu” veya “kurşunsuz” ürünler genellikle kızılötesi yöntemleriyle üretiliyor.

Fiziği aslında oldukça basit.
Konveksiyon fırınlarını düşünün: Hava ısıtılır, bu da duvarları ısıtır; sonunda da parçayı ısıtır. Bu süreci sürdürebilmek için büyük fanlara ihtiyaç vardır ve enerjinin büyük bir kısmı duvarlardan kaybolur. Kızılötesi yöntemi ise farklıdır; elektromanyetik radyasyon kullanılır. Enerji doğrudan fotorezist veya yapıştırıcıya geçer. Bu yöntem çok hızlıdır. Kısa dalga boylu kızılötesi ışınlar kullanıldığında ise enerji malzemenin daha derin katmanlarına kadar ulaşır. Böylece kalın katmanlar da hasar görmeden kurutulabilir.

Bölümlü wafer kurutma kızılötesi paneli

Thu, 02 Jul 2026 08:57:34 +0800

Üretim alanında, 5 nm seviyesindeki işlemlerde hata payı çok düşüktür. Wafer’in üzerindeki 0,3°C’lik bir sıcaklık farkı bile CD değerlerini değiştirebilir ve işlem sonrasında fotoresist kalıntıları bırakabilir. Peki ya geleneksel kurutma yöntemleri? Bilindiği gibi, kenarlar hâlâ nemli kalır. Sadece döndürme yöntemi ise çözücü israfına neden olur ve parçacık oluşumu konusunda endişelere yol açar.

Bu belirsizlikleri ortadan kaldırmak için, wafer’in temizlenip çıkarıldığı noktada kullanılacak bir bölgeli kızılötesi panel geliştirdik. Bu panelin temel özelliği, bölgeli kontrol özelliğine sahip kısa dalga boylu kızılötesi ışınları kullanmasıdır. Her bölge, ±0,1°C hassasiyetle sabitlenir; böylece tüm wafer aynı termal koşullara sahip olur. Panelin yapısı incedir, Class 1–100 temiz odalarında kullanılabilir ve yüzeyi yeterince soğuktur; bu da parçacık oluşumunu neredeyse sıfıra indirir.