<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Wafers on Extra Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-extra.com/tr/tags/wafers/</link>
		<description>Recent content in Wafers on Extra Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 08:57:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-extra.com/tr/tags/wafers/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bölümlü wafer kurutma kızılötesi paneli</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/tr/posts/zoned-wafer-drying-infrared-panel/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:57:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-extra.com/tr/posts/zoned-wafer-drying-infrared-panel/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Bölümlü wafer kurutma kızılötesi paneli&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Üretim alanında, 5 nm seviyesindeki işlemlerde hata payı çok düşüktür. Wafer’in üzerindeki 0,3°C’lik bir sıcaklık farkı bile CD değerlerini değiştirebilir ve işlem sonrasında fotoresist kalıntıları bırakabilir. Peki ya geleneksel kurutma yöntemleri? Bilindiği gibi, kenarlar hâlâ nemli kalır. Sadece döndürme yöntemi ise çözücü israfına neden olur ve parçacık oluşumu konusunda endişelere yol açar.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Bu belirsizlikleri ortadan kaldırmak için, wafer’in temizlenip çıkarıldığı noktada kullanı&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;lacak&lt;/a&gt; bir bölgeli kızılötesi &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;panel&lt;/a&gt; geliştirdik. Bu panelin temel özelliği, bölgeli &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;kontrol&lt;/a&gt; özelliğine sahip kısa dalga boylu kızılötesi ışınları kullanmasıdır. Her bölge, ±0,1°C hassasiyetle sabitlenir; böylece tüm wafer aynı termal koşullara sahip olur. Panelin yapısı incedir, Class 1–100 temiz odalarında kullanılabilir ve yüzeyi yeterince soğuktur; bu da parçacık oluşumunu neredeyse sıfıra indirir.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
