<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Зоновано on Extra Performance IR Heating</title>
		<link>http://ir-heat-extra.com/uk/tags/%D0%B7%D0%BE%D0%BD%D0%BE%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%BE/</link>
		<description>Recent content in Зоновано on Extra Performance IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 08:57:35 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-extra.com/uk/tags/%D0%B7%D0%BE%D0%BD%D0%BE%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%BE/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Інфрачервона панель для сушіння вафер у зонованому режимі</title>
				<link>http://ir-heat-extra.com/uk/posts/zoned-wafer-drying-infrared-panel/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:57:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-extra.com/uk/posts/zoned-wafer-drying-infrared-panel/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-extra.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Інфрачервона панель для сушіння вафер у зонованому режимі&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На заводі з виробництва чіпів технологія 5 нм не залишає жодних можливостей для похибок під час обробки. Навіть незначна температура у 0,3°C на поверхні пластини може спричинити зміщення параметрів якості та залишити сліди фотополімеру після етчінгу. А що стосується традиційного сушіння? Ви ж знаєте, що краї пластини все одно залишаються вологими. Методи сушіння за допомогою обертання призводять до марновидатку розчинників та створюють проблеми через наявність частинок.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ми створили інфрачервону панель з розділеною зоною контролю, яка дозволяє усунути ці проблеми саме там, де пластина виходить з процесу очищення.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
