Đèn nướng mềm photoresist

Mon, 08 Jun 2026 05:10:56 +0800

Trên sàn sản xuất, quá trình nướng mềm không phải là một màn khởi động. Nó xác định ngân sách lithography, không hơn không kém. Sự không đồng nhất về nhiệt độ xuất hiện dưới dạng biến thể CD, và sự giữ lại dung môi quay trở lại dưới dạng chân đế, bùn hoặc độ nhám cạnh đường. Để quá trình nướng trôi đi, bạn đang có nguy cơ với toàn bộ lô hàng.

Đây là những gì quan trọng về mặt kỹ thuật. Đèn nướng mềm photoresist của chúng tôi giữ độ đồng nhất trong trạng thái ổn định ±0.1°C trên toàn bộ wafer. Các vật liệu tương thích với phòng sạch loại 1–100, và thiết bị này tạo ra không có hạt bụi. Các yếu tố hồng ngoại sóng ngắn được điều chỉnh theo hồ sơ hấp thụ của photoresist, vì vậy năng lượng đi vào màng phim, không phải vào nền. Độ lặp lại là ±0.5°C từ lô này sang lô khác, và kiểm soát gia tốc đủ chặt để tôn trọng ngân sách nhiệt của các nút tiên tiến mà không bị quá mức.

Ảnh Kháng Photô on Extra Performance IR Heating

Đèn nướng mềm photoresist