Bộ sưởi CVD (Phương pháp lắng đọng hơi hóa học)

Sun, 21 Jun 2026 06:25:08 +0800

Trong quy trình CVD, đặc tính nhiệt của buồng xử lý không chỉ là một thông số bình thường mà chính nó chính là yếu tố quyết định hiệu suất của quy trình. Chỉ cần có sự chênh lệch nhiệt độ 1°C trên bề mặt wafer, điều này cũng có thể làm thay đổi áp suất trên lớp phim được tạo ra, ảnh hưởng đến tốc độ lắng đọng chất và khiến việc kiểm soát kích thước các chi tiết trở nên khó khăn. Khi bộ sưởi bắt đầu mất ổn định, quy trình sản xuất sẽ bị gián đoạn. Chúng tôi thiết kế bộ sưởi hồng ngoại dành cho quy trình CVD sao cho nhiệt độ trong buồng xử lý luôn nằm trong phạm vi cho phép – đó là kết quả của việc thiết kế khoa học, chứ không phải do suy đoán.

Hơi Nước on Extra Performance IR Heating

Bộ sưởi CVD (Phương pháp lắng đọng hơi hóa học)