Lò Nung on Extra Performance IR Heating

Lò nung nhiệt độ cao dành cho phòng thí nghiệm sản xuất

Sat, 27 Jun 2026 04:57:25 +0800

Trong quy trình sản xuất, việc kiểm soát nhiệt độ rất quan trọng – đó không phải là thứ có thể điều chỉnh linh hoạt, mà là yếu tố then chốt trong quy trình sản xuất. Chỉ cần nhiệt độ thay đổi 2°C trong quá trình nướng wafer, các kích thước quan trọng của wafer sẽ bị ảnh hưởng; thậm chí một hạt bụi nhỏ trong buồng nướng cũng có thể phá hủy một wafer có kích thước 300mm. Chúng tôi thiết kế lò nung nhiệt độ cao này để giúp các xưởng sản xuất đối phó với những thách thức này, chứ không phải chống lại chúng.

Phần tử gia nhiệt lò LPCVD

Sun, 31 May 2026 04:52:45 +0800

Trên dây chuyền, lò LPCVD hoạt động như một bình chịu áp suất đòi hỏi các yếu tố sau—nhiệt độ ổn định, độ đồng đều chặt chẽ và không có sai lệch do hạt bụi. Một lần sai lệch nhiệt độ trong quá trình lắng đọng polysilicon hoặc nitride có thể gây ra sự không đồng đều về độ dày trên toàn mẻ. Một điểm nóng có thể làm sai lệch hồ quang photoresist trong các module nướng đặt ngay bên cạnh. Bộ phận gia nhiệt của lò không chỉ là thiết bị nền tảng; nó là công cụ nhiệt quyết định mức độ lặp lại của ngân sách nhiệt bạn có thể đạt được.