Auf der Fertigungsebene kann eine Weichbehandlung des Photoresists bei 95°C um bis zu 1,5°C abweichen. Dadurch wird die Kontrolle der Linienbreite in der nächsten Lithographiestufe beeinträchtigt. Bei der Herstellung von Supraleiterchips bedeutet diese Abweichung nicht nur einen Verlust an Ertrag – es handelt sich dabei auch um einen Produktionsfehler.
Was technisch wichtig ist:
Wir haben die Lampe für die Herstellung von Supraleiterchips so konstruiert, dass sie eine kontrollierte Strahlungswärme erzeugt und eine hohe thermische Homogenität gewährleistet. Dadurch bleibt die Temperatur über die gesamte Fläche des Wafers konstant – unabhängig davon, ob es sich um eine Weich- oder Härtebehandlung handelt.
Das Design des Emitters sorgt dafür, dass die Wärme schnell abgegeben wird. Dadurch bleibt die Temperatur auch bei Änderungen der Prozessparameter konstant. Die Lampe kann in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt werden – mit versiegelten Kammerstrukturen sowie Materialien, die wenig Gase abgeben. So steigt die Anzahl der Partikel während langfristiger Behandlungszyklen nicht an. Eine geschlossene Regelungsschleife sorgt dafür, dass die Ausgabe immer wieder reproduzierbar ist – was wiederum dazu beiträgt, dass die kritischen Abmessungen auch in derätiven Schritten konstant bleiben.
Warum das funktioniert:
Supraleiterlinien benötigen eine präzise Kontrolle der Temperaturen sowie einen engen Prozessfenster. Mit dieser Lampe liegen die Temperaturen während der Weich- und Härtebehandlung innerhalb der zulässigen Toleranzen. Dadurch bleibt die Verteilung des Photoresists sowie seine Haftung auf dem Wafer konstant.
Das führt zu einer besseren Übereinstimmung der Linien sowie einer geringeren Anzahl an Nacharbeitszyklen. Zudem lässt sich die Dauer der Behandlung genau planen. Da die Lampe schnell auf den gewünschten Wert anspringt und diesen ohne Schwankungen hält, wird keine Energie verschwendet – und das Equipment wird nicht übermäßig erhitzt.
Worauf man achten muss:
Die Lampe lässt sich in bestehende Lithografieanlagen einsetzen. Allerdings benötigt man einen speziellen Stromversorgungsanschluss sowie eine ordnungsgemäße Belüftung, damit die Anforderungen des Reinraums eingehalten werden. Planen Sie außerdem einen kurzen Testbetrieb, um die Entfernung zwischen Lampe und Wafer sowie die Temperaturverteilung für Ihren bestimmten Prozess anzupassen.