Die richtige Trocknung von MEMS-Wafern – ohne Kontaminationsprobleme Bei der Trocknung von MEMS-Sensoren ist Wärme nur die halbe Miete. Der...

Hören Sie auf, Energie an Ihren Wafer-Werkzeugen zu verschwenden! Das Erhitzen einer Siliziumwafer erfordert Präzision. Doch wer bereits mit...

Warum wir auf Infrarotverfahren für bleifreie Halbleiter umsteigen Die Welt der Halbleiter entwickelt sich endlich in eine bessere Richtung. Wir...

Das Problem bei der Trocknung von Wafern beenden Die Realität bei der Trocknung von Wafern unter hohem Druck ist folgende: Wenn eine Lampe ausfällt,...

Einführung Beim Verarbeiten von Wafern ist die Temperatur nicht einfach nur eine Zahl auf dem Bildschirm. Sie ist vielmehr der entscheidende Faktor...

Einführung Wir haben unsere Waferheizgeräte so konstruiert, dass sie auch die schwierigsten Bedingungen in einer Halbleiterfabrik bewältigen können....

Einführung Lassen Sie uns über eine bestimmte Art von Infrarot-Heizlampe sprechen – eine Lampe, die speziell für die anspruchsvollen Bedingungen in...

In der Fertigungshalle führt bereits eine Abweichung von einem halben Grad beim Prüfen der Halbleiterwafern dazu, dass viele Wafer als Schrott enden...

In der Fertigungsstätte lässt ein 5-nm-Prozessschritt keinen Spielraum für Fehler. Schon eine Temperaturdifferenz von 0,3 °C auf der Wafer-Oberfläche...

Auf der 300-mm-Linie ist ein Drift von 0,5 °C während des Soft Bakes kein Hinweis am Rande. Es ist ein Yield-Leck. Die Profile des photoresists...

Auf dem Fertigungsboden kennen Sie das Vorgehen: Eine halbe Grad Abweichung während des Soft Bake oder Hard Bake kann kritische Maße verschieben und...