Dalam proses pembungkusan, suhu substrat bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan begitu sahaja. Ia merupakan faktor penting yang menentukan sama ada proses pengeluaran dapat berjalan dengan lancar atau tidak. Jika lampu pemanas tersebut tidak berfungsi dengan baik atau menghasilkan kawasan panas yang tidak sekata, ia akan dapat dilihat dengan segera: perubahan profil lapisan photoresist selepas proses pemanasan, perubahan ketebalan garisan selepas proses pemanasan yang lebih intensif, serta ketidakteraturan dalam proses etching. Kami mencipta lampu pemanas ini untuk satu tujuan sahaja: untuk memastikan kawalan suhu yang tepat semasa proses pengeluaran berlangsung.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami menggunakan penyearah jenis NIR quartz-halogen yang direka untuk memberikan pemanasan yang cepat dan terarah, sambil meminimumkan kelewatan suhu pada substrat. Yang paling penting ialah keseragaman suhu, iaitu antara ±0.1°C di seluruh kawasan yang dipanaskan. Sistem ini juga sesuai digunakan di bilik bersih yang berada dalam kelas 1 hingga 100. Kami memastikan tiada zarah terbentuk melalui pemantauan secara langsung. Keluaran yang dihasilkan tetap konsisten dalam julat ±0.3% sepanjang masa. Kami telah melihat unit ini beroperasi selama lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan keluaran melebihi 5%. Proses pemanasan dilakukan oleh sistem kawalan suhu tertutup yang memastikan suhu tetap stabil mengikut prosedur yang ditetapkan.
Inilah sebabnya mengapa sistem ini sesuai digunakan dalam proses pembungkusan sebenar: substrat mempunyai had suhu yang ketat, dan waktu pemanasan photoresist juga sangat terhad. Apabila proses pemanasan berjalan dengan stabil, penyingkiran bahan pelarut akan menjadi lebih efektif, sekali gus mengurangkan masalah yang berkaitan dengan lapisan sisa. Keseragaman suhu yang tinggi memastikan proses etching berjalan dengan lebih baik, dan kawalan dimensi produk juga lebih tepat. Akibatnya, jumlah kerja ulang dapat dikurangkan, masa henti yang tidak dirancang berkurangan, dan penggunaan tenaga juga berkurangan kerana suhu dapat dikawal dengan lebih baik.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan: Pemanasan jenis NIR memerlukan jarak antara lampu dan substrat yang tetap, agar keseragaman suhu dapat terpelihara. Tempoh persiapan untuk menyesuaikan sistem pemanasan dengan susunan substrat dan alat-alat yang digunakan juga memerlukan masa yang singkat. Lampu ini boleh digunakan dengan fixtures substrat biasa, namun jika ia digunakan dalam sistem lama, mungkin diperlukan adaptator mekanikal serta antaramuka kuasa/kawalan khas.