در خط تولید، روشهای پخت نرم و سخت، محدودیتهای لازم برای فرآیند تولید را تعیین میکنند؛ کنترل دما چیزی نیست که بتوان آن را به راحتی تغییر داد، بلکه یک شرط ضروری برای انجام فرآیند است. تغییر ۲ درجه سانتیگراد در دمای ویفر، میتواند ابعاد حیاتی آن را تغییر دهد؛ همچنین، وجود یک ذره در داخل اتاق پخت، میتواند باعث خرابی ویفر ۳۰۰ میلیمتری شود. ما فرنهای با دمای بالا را برای آزمایشگاههای تولید ساختهایم تا بتوانند با این شرایط کنار بیایند، نه اینکه با آنها مبارزه کنند.
از نظر فنی، چه چیزی مهم است؟
ما از یکنواختی دما در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد در کل منطقه فرآیند، انتظار داریم؛ همچنین، تکرارپذیری فرآیند نیز باید در هر چرخه فرآیندی حفظ شود. در منطقه داغ، از کوارتز و عناصر مادون قرمز برای ارائه گرمای تمیز و سریع استفاده میشود؛ بنابراین الگوی دما دقیقاً مطابق با دستورالعملهای مشخص شده خواهد بود. اتاق پخت نیز برای استفاده در محیطهای پاکسازی شده کلاس ۱ تا ۱۰۰ طراحی شده است؛ مواد مورد استفاده نیز دارای میزان گاز خروجی کمی هستند، و مسیر جریان هوا نیز به گونهای است که تولید ذرات را به حداقل برساند. برای پخت فوتورزیست، این امر به معنای حذف یکنواخت حلالها و جریان منظم پلیمرها است؛ یعنی نه پخت بیش از حد، و نه پخت ناکافی.
چرا این فرن در شرایط روزمره تولید کارایی خوبی دارد؟
نیاز به عملکرد حرارتی مناسبی وجود دارد که منجر به از دست رفتن زمان تولید نشود. این فرن، ۲۴/۷ کار میکند؛ بنابراین نیازی به توقفهای ناگهانی نیست. هر دستورالعمل فرآیندی، با پارامترهای قابل ردیابی ذخیره میشود؛ بنابراین هر بار پخت، قابل تکرار خواهد بود. همین سیستم حرارتی، میتواند با اندازههای مختلف ویفرها و پیکربندیهای مختلف، کار کند؛ بنابراین نیازی به تنظیمات مجدد نیست. انرژی نیز از طریق تثبیت سریع دما و کاهش هدررفت انرژی، مدیریت میشود؛ یعنی دقت بدون هدررفت انرژی.
چه چیزهایی را باید از همان ابتدا در نظر گرفت؟
برای نصب این فرن، نیاز به سیستم تهویه مناسب و منبع گاز تمیز و خشک وجود دارد؛ این فرن با سیستمهای خودکار استاندارد و SECS/GEM سازگار است؛ اما برای اتصال آن به سیستمهای موجود، نیاز به بررسیهای لازم است. ابتدا باید عملکرد فرن در شرایط پخت فوتورزیست بررسی شود؛ وقتی که یکنواختی دما و عملکرد فرن تأیید شد، این فرن مانند یک پارامتر ثابت عمل خواهد کرد.