Sur le site de fabrication, un nœud de 5 nm ne laisse aucune marge d’erreur. Une différence de température de 0,3 °C sur la wafer peut entraîner des déviations dans les paramètres de gravure, ainsi que des résidus de photo-résist après traitement. Quant au séchage conventionnel… vous savez bien comment ça se passe : les bords de la wafer restent humides. Les méthodes de séchage par rotation gaspillent du solvant et causent des problèmes liés aux particules présentes dans l’air.
Nous avons donc conçu un panneau infrarouge à zones afin d’éliminer ces incertitudes dès que la wafer quitte l’étape de lavage propre.
Le cœur de ce panneau est constitué de rayonnement infrarouge à court terme, avec un contrôle précis des zones. Chaque zone conserve une stabilité de température de ±0,1 °C, ce qui permet à toute la wafer d’obtenir le même rapport thermique. Le panneau est fin, adapté aux salles propres de classe 1–100. Sa surface reste suffisamment froide pour éviter la formation de particules.
Ainsi, on obtient un séchage fiable, sans risque que le photo-résist ne s’écoule. Les phases de séchage doux et forts restent intactes, et il est possible d’éliminer les résidus de film sur les wafer sans avoir à les exposer à nouveau.
En pratique, cela permet d’augmenter la vitesse de traitement et le rendement. Le temps de séchage diminue, car l’énergie agit directement sur le film, et non sur le support sur lequel il est appliqué. La consommation d’énergie diminue également, car seules les zones actives sont activées. De plus, les temps d’arrêt imprévus diminuent grâce à une conception permettant un fonctionnement 24/7, avec des modules interchangeables sur le terrain.
Enfin, on obtient une rupture régulière des gouttelettes, une consommation de solvant réduite, ainsi qu’un contrôle plus précis des paramètres de gravure et d’etching.
L’installation est simple, mais la géométrie de la chambre est cruciale. Il faut que la taille du panneau corresponde à celle du porte-wafer, et il faut vérifier les distances nécessaires pour le fonctionnement correct des bras robotiques. Le panneau s’intègre facilement aux systèmes de contrôle existants, via des interfaces standard. Il suffit de spécifier la tension et le type de connecteur à l’avance, afin d’éviter tout travail supplémentaire.
Le séchage par rayonnement infrarouge à zones n’est pas une solution universelle pour toutes les lignes de production. Il est particulièrement utile là où l’uniformité thermique constitue un obstacle majeur. Si votre ligne de production vise des rendements élevés sur des nœuds avancés, ce panneau vous offre le contrôle nécessaire pour maintenir ces performances.