अपने वेफर उपकरणों पर ऊर्जा की बर्बादी रोकें सिलिकॉन वेफर को गर्म करने में सटीकता बहुत महत्वपूर्ण है। लेकिन यदि आपने मानक IR उपकरणों का उपयोग किया है,...

फैब लेवल पर, फोटोरेजिस्ट को गर्म करने की प्रक्रिया केवल एक सामान्य तापमान-नियंत्रण चरण ही नहीं है; बल्कि यह उत्पादन दक्षता पर सीधा प्रभाव डालती है।...

फ़ैब फ्लोर पर, फोटोरेसिस्ट बेकिंग कोई वैकल्पिक थर्मल स्टेप नहीं है - यह लाइनवाइड स्पेक को पूरा करने और लॉट को स्क्रैप करने के बीच की पतली रेखा है।...

फैब फ्लोर पर, आप प्रक्रिया से परिचित हैं। फोटोरेसिस्ट बेक के दौरान 0.2°C का ड्रिफ्ट क्रिटिकल डायमेंशंस को स्पेक से बाहर कर सकता है और बहुत कुछ...

फैब फ्लोर पर, अंडरफिल में खाली जगहें और धीमी थ्रूपुट सिद्धांत के रूप में नहीं दिखतीं। ये खोए हुए डाई और छूटे हुए लक्ष्य के रूप में सामने आती हैं।...