Di bilik pemprosesan, proses pembakaran yang lembut dan keras memainkan peranan penting dalam menentukan kualiti wafer. Kawalan suhu bukanlah sesuatu yang boleh diubah secara manual; ia merupakan syarat penting yang perlu dipatuhi. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran boleh mengubah dimensi wafer secara drastik. Selain itu, kehadiran zarah-zarah tertentu di dalam ruang pemprosesan juga boleh merosakkan wafer berukuran 300mm. Kami telah membina ketuhar berkelajuan tinggi ini agar dapat berfungsi dengan baik dalam keadaan sebenar, bukannya untuk melawan keadaan tersebut.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menetapkan tahap keseragaman suhu pada ±0.1°C di seluruh kawasan pemprosesan. Kami juga memastikan kebolehulangan proses pemprosesan tetap berada dalam lingkungan toleransi yang sama, dari satu kitaran ke kitaran seterusnya. Zon panas menggunakan bahan kuarsa dan elemen inframerah untuk menghasilkan haba yang bersih dan cepat, tanpa gangguan haba yang berlebihan. Ruang pemprosesan pula direka untuk mencapai standard bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang tidak mengeluarkan gas yang banyak, serta aliran udara yang teratur, sehingga pengeluaran zarah-zarah menjadi hampir sifar. Dengan cara ini, proses pembakaran photoresist akan berjalan dengan lancar, tanpa berlaku pembakaran yang berlebihan atau tidak mencukupi.
Mengapa ia sesuai untuk digunakan dalam operasi harian
Kita memerlukan prestasi termal yang baik agar tidak mengganggu masa operasi. Ketuhar ini beroperasi 24/7, mengikut jadual penyelenggaraan yang telah ditetapkan, bukannya berhenti secara tiba-tiba akibat masalah teknikal. Setiap proses pemprosesan direkodkan dengan parameter yang tepat, supaya setiap proses pemprosesan dapat diulang dengan hasil yang konsisten. Platform termal yang sama dapat digunakan untuk pelbagai saiz wafer dan konfigurasi pengeluaran, tanpa perlu melakukan penyesuaian semula, sekaligus mengurangkan masa perubahan proses dan menjimatkan tenaga. Tenaga digunakan dengan efisien melalui penstabilan yang cepat dan pengurangan kerugian tenaga semasa dalam keadaan tunggu.
Apa yang perlu diperhatikan sebelum memasangnya
Pemasangan ketuhar ini memerlukan sistem pengudaraan yang sesuai, serta bekalan gas yang bersih dan kering, sesuai dengan spesifikasi peranti tersebut. Ketuhar ini boleh berfungsi bersama sistem automasi biasa dan protokol SECS/GEM. Namun, untuk menggunakannya dalam sistem pengendalian bahan sedia ada, perlu ada pengesahan yang teliti mengenai aliran wafer yang digunakan. Pastikan ketuhar ini berfungsi dengan baik sebelum digunakan. Setelah keseragaman suhu dan kualiti pemprosesan dapat dipastikan, ketuhar ini akan berfungsi seperti komponen yang stabil, bukan sesuatu yang boleh berubah-ubah.