Di kilang pembuatan semikonduktor, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemindai wafer boleh menyebabkan banyak wafer menjadi tidak berguna, tanpa kita sedari. Apabila had haba yang ada sangat terhad dan jadual pengeluaran tidak membenarkan sebarang kesilapan, maka membuat tekaan bukanlah pilihan yang sesuai.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami mencipta pemanas untuk pemindai wafer semikonduktor menggunakan pelepas inframerah gelombang pendek (SWIR), digabungkan dengan bahan kuarsa dan seramik yang mempunyai massa haba yang rendah. Ini membolehkan tindak balas yang cepat, serta ketepatan suhu sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan aktif wafer. Ketepatan suhu antara sesi pengeluaran pula adalah ±0.05°C, supaya proses pembakaran wafer dapat dilakukan dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan.
Platform ini direka khusus untuk beroperasi dalam lingkungan bilik bersih tahap 1–100. Permukaannya diproses secara elektropolishing dan disegel rapi. Tiada zarah debu dihasilkan, seperti yang disahkan oleh alat pengiraan zarah semasa ujian kelayakan. Penghantaran tenaga ke pemanas tetap stabil dalam lingkungan ±0.2%, walaupun voltan bekalan berubah-ubah. Pemanas ini juga mampu berfungsi 24/7 tanpa sebarang gangguan, walaupun dalam sistem pengeluaran berbilang syif.
Mengapa ini penting dalam praktiknya
Dari segi pemindai wafer, suhu yang stabil amat penting agar data yang diperoleh konsisten dan penempatan kontak antara permukaan wafer tetap tepat. Dalam proses pembakaran wafer, iklim kimia fotorezistan tidak akan bertoleransi terhadap perubahan suhu yang drastik atau kawasan panas. Pemanas ini dapat mengelakkan masalah tersebut, sekali gus mengurangkan kecacatan dan keperluan untuk memproses semula wafer.
Kawalan suhu yang lebih baik juga membantu mengoptimumkan proses pengeluaran. Kurangnya perubahan suhu bermakna proses stabilisasi berlaku lebih cepat, jumlah wafer yang tidak berguna berkurangan, dan tenaga yang digunakan juga berkurangan. Hasilnya ialah kadar pengeluaran yang lebih baik dan kurangnya gangguan dalam proses pengeluaran.
Butiran yang memungkinkan ia berfungsi dengan baik
Pemasangan pemanas ini memerlukan sumber tenaga yang khusus dan telah disaring, agar sesuai dengan keperluan alat tersebut. Selain itu, antaramuka antara pemanas dan wafer juga perlu disesuaikan dengan sistem kawalan suhu yang digunakan, agar ketepatan suhu dapat dicapai.
Proses penyesuaian awal diperlukan untuk menentukan nilai emisiviti dan mengenal pasti kawasan panas pada wafer. Setelah disesuaikan, proses pengeluaran dapat berjalan dengan lancar.