Op de productieafdeling bepalen zowel het zachte als het harde bakproces de randvoorwaarden voor het proces. Thermische controle is geen parameter die je eenvoudig kunt aanpassen; het gaat om de grenscondities die van toepassing zijn. Een verschil van 2°C in temperatuur tijdens het bakproces kan leiden tot grote afwijkingen in de dimensies van de wafer. Eén enkele deeltje in de kamertemperatuur kan ervoor zorgen dat een 300 mm grote wafer beschadigd raakt. We hebben onze oven ontworpen zodat deze kan omgaan met deze realiteiten, in plaats van ze te proberen te negeren.
Wat technisch gezien belangrijk is: We eisen een temperatuuruniformiteit van ±0,1°C in de process zones. Ook de herhaalbaarheid moet binnen dezelfde toleranties blijven, cyclus na cyclus. De hete zone maakt gebruik van kwarts en kortegolfinfrarode elementen om snel en efficiënt warmte te leveren, zonder veel thermische vertragingen. Hierdoor volgt het temperatuurprofiel precies het voorgeschreven patroon. De kamer is ontworpen voor gebruik in een schone ruimte van klasse 1–100. Er worden materialen gebruikt die weinig gassen afgeven, en er is een laminerale luchtcirculatie die zorgt voor zo min mogelijk deeltjesvorming. Voor het bakken van photoresist betekent dit dat de oplosmiddelen consequent worden verwijderd en dat de polymeren goed kunnen stromen – geen overbakken of onvolledig gebakken wafer.
Waarom het werkt in de dagelijkse productie: Je hebt een oven nodig die optimaal presteert, zonder dat dit invloed heeft op de productietijd. Deze oven kan 24/7 draaien, volgens een vast onderhoudsschema. Elke procesinstelling wordt gemarkeerd met traceerbare parameters, zodat elke bakcyclus goed wordt gedocumenteerd en herhaalbaar is. Dezelfde oven kan verschillende waferformaten en batchconfiguraties verwerken, zonder dat de hele setup opnieuw moet worden geconfigureerd. Dit verkort de tijd die nodig is voor het wisselen van producten en beschermt daarmee de thermische budgetten. Energieverbruik wordt beheerst door snelle stabilisatie en lage standby-verliezen – precisie zonder verspilling van energie.
Wat je van tevoren moet weten: Voor de installatie is een speciale afvoer nodig, evenals een schone en droge gasvoorziening die past bij de specificaties van de oven. De oven werkt samen met standaard automatiseringssystemen en SECS/GEM. Toch moet er nog goed worden gecontroleerd of de oven past in je huidige materiaalbehandelingsproces. Eerst moet de oven worden getest op zijn prestaties voor het bakken van photoresist. Zodra de uniformiteit en de prestaties van de oven goed zijn vastgesteld, werkt de oven als een vaste procesconstante, in plaats van als een variabele factor.