製造現場では、フォトレジストを加熱する際に1℃の温度変動があるだけで、重要な寸法が変わってしまい、多くのウェーハが廃棄処分されてしまいます。私たちは、このような不確実性を完全に排除するために、半導体用の赤外線ヒーターを開発しました。
内部的に重要なポイント 石英製のケースを使用した短波長赤外線を利用することで、熱が直接伝達され、速く、かつ正確に制御できます。ウェーハ全体において、±0.1℃という高い均一性が保たれ、温度勾配による露光や現像の不良を防ぎます。この装置はクラス1～100の清浄室で使用され、リアルタイムの監視により粒子の発生がないことが確認されます。出力の再現性もサイクルごとに0.5％以内であり、5,000時間以上の使用でも出力の低下は5％未満です。
なぜリソグラフィーに適しているのか リソグラフィーにおいて、この安定性により、ソフトベイクやハードベイクの条件をより厳格に設定できます。CDのコントロールもより正確になり、一貫した条件での加熱により再加工の必要が減ります。また、設定温度に迅速に到達するため、フォトレジストの耐熱限界を超えることなく、加熱時間を短縮できます。
同様の利点は、ウェーハの洗浄や乾燥にも当てはまります。安定した加熱により、表面の欠陥や端の問題が減少します。また、装置がチャンバーの壁ではなく、対象物自体を加熱するため、エネルギーの節約にもつながります。
避けて通れない実用的な詳細 設置時には、光学的位置合わせが正確でなければならず、出力の不安定さを引き起こす可能性のある電源の変動を防ぐために、専用の電力調整装置が必要です。この装置は標準的なOEMの固定具と併用できますが、熱的な余裕やEMI対策も考慮して設計する必要があります。また、定期的に校正を行うことが重要であり、特にランプを交換した後は、均一性が規格内に保たれるようにしなければなりません。